一种自供料振动旋转柔性抛光工具

    公开(公告)号:CN117733716A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202410048730.2

    申请日:2024-01-12

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种自供料振动旋转柔性抛光工具,包括法兰盘、往复振动单元、机架、抛光膏泵送单元、直线运动与旋转运动转换接头、空轴电机以及多流道抛光头。抛光膏通过抛光膏泵送单元进入直线运动与旋转运动转换接头,直线运动与旋转运动转换接头上端与抛光膏泵送单元输送软管连接接,末端与空轴电机连接,抛光膏的直线运动转换为旋转运动,空轴电机带动多流道抛光头旋转,实现被抛光零件材料去除。往复振动单元控制抛光头进行快速往复运动进而实现振动功能。多流道抛光头内部设置有多条通道保证抛光膏流出并粘附在被抛光零件表面。该抛光工具振动频率以及单位时间内抛光膏注入量均可调节,可以有效提高抛光过程中的中频段误差收敛速度。

    一种曲面抛光轨迹均匀覆盖方法、装置及可读存储介质

    公开(公告)号:CN118927026A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410980480.6

    申请日:2024-07-22

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明属于抛光轨迹规划技术领域,涉及一种曲面抛光轨迹均匀覆盖方法、装置及可读存储介质:将待加工曲面的I圈平面抛光轨迹映射至网格模型,得到I圈曲面轨迹;在第1圈曲面轨迹中选取基准点,对第1圈曲面轨迹中每个轨迹点进行调整,直到每个轨迹点与基准点之间的欧式距离等于目标距离,得到第1条抛光轨迹;初始化i=2;对于第i圈曲面轨迹中每个轨迹点,在第i‑1条抛光轨迹中选取相应基准点,并对各个轨迹点进行调整,直到第i圈曲面轨迹中每个轨迹点与其相应的基准点之间的欧式距离等于目标距离,得到第i条抛光轨迹;更新i=i+1,并对第i圈曲面轨迹中的轨迹点进行调整,直到i=I,得到目标抛光轨迹。

    一种曲面抛光轨迹自适应生成方法、装置及可读存储介质

    公开(公告)号:CN118940404A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410980482.5

    申请日:2024-07-22

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明属于抛光轨迹规划技术领域,涉及一种曲面抛光轨迹自适应生成方法、装置及可读存储介质;对待加工曲面离散化得到网格模型,提取网格模型中每个三角形网格顶点坐标;将每个三角形网格映射至二维平面,得到对应的目标三角形网格;在二维平面上进行轨迹规划得到初始抛光轨迹,根据每个平面轨迹点所在的目标三角形网格与其对应的三角形网格之间的映射关系,求解平面轨迹点在网格模型上的空间位置,得到曲面轨迹点;对于每个曲面轨迹点,均选取对应的基准点,对该曲面轨迹点进行调整,直到该曲面轨迹点和基准点之间的抛光去除残留高度小于等于预设残留误差,得到对应的目标曲面轨迹点;基于所有目标曲面轨迹点得到待加工曲面的目标抛光轨迹。

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