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公开(公告)号：CN1239983A
公开(公告)日：1999-12-29
申请号：CN97180544.X
申请日：1997-12-03
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K5/04 , C10M171/00 , C10M169/04 , C10N40/30
CPC classification number: C10M169/04 , C09K5/045 , C09K2205/24 , C10M111/04 , C10M171/008 , C10M2207/281 , C10M2207/282 , C10M2207/283 , C10M2207/286 , C10M2207/30 , C10M2207/304 , C10M2209/104 , C10M2209/105 , C10M2209/107 , C10M2211/022 , C10M2211/06 , C10N2220/02 , C10N2240/00 , C10N2240/22 , C10N2240/30 , C10N2240/50 , C10N2240/52 , C10N2240/54 , C10N2240/56 , C10N2240/58 , C10N2240/60 , C10N2240/66
Abstract: 本发明公开了一种在25℃具有不小于1×1013Ω.cm的体积电阻的制冷油，其含有(a)酯基油，和(b)式(1)：R1O(EO)m(PO)nR2表示的化合物。在上述式中，R1是具有1—36个碳原子的烃基；R2是氢原子、含有1—36个碳原子的烃基或含有1—24个碳原子的酰基；EO是氧化乙烯基团；PO是氧化丙烯基团；和m是0—50的数，和n是0—50的数，其条件是m和n的和为1—100。在制冷油中基于100重量份(a)，(b)的数量为2—25重量份。一种用于制冷机械的工作流体组合物，其含有上述制冷油和一种或多种氢氟烃。
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公开(公告)号：CN1680509B
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200510064805.3
申请日：2005-04-06
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409
Abstract: 本发明涉及一种包含平均粒径为1～30nm的研磨材料和水的研磨液组合物，其中该研磨材料的填充率为79～90重量％；涉及一种基板的制造方法，其包括将上述研磨液组合物引入到基板与研磨垫之间，使其一边与所述基板接触，一边进行研磨的工序；还涉及一种减少被研磨基板的划痕的方法，其包括使用上述研磨液组合物对被研磨基板进行研磨的工序。本发明的研磨液组合物，例如适用于磁盘、磁光盘等磁性记录介质的基板、光掩模基板、光盘、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。
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公开(公告)号：CN103119122B
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201180045169.3
申请日：2011-09-21
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供能够减少研磨后的被研磨物的表面粗糙度及颗粒的研磨液组合物的制造方法。本发明涉及研磨液组合物的制造方法，其具有如下工序：将含有一次粒子的平均粒径为1～100nm的胶态二氧化硅的被处理二氧化硅分散液，用包含过滤助剂的过滤器进行过滤处理的工序，其中，利用汞压入法测定的所述过滤助剂的平均细孔径为0.1～3.5μm。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103119122A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201180045169.3
申请日：2011-09-21
Applicant: 花王株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明提供能够减少研磨后的被研磨物的表面粗糙度及颗粒的研磨液组合物的制造方法。本发明涉及研磨液组合物的制造方法，其具有如下工序：将含有一次粒子的平均粒径为1～100nm的胶态二氧化硅的被处理二氧化硅分散液，用包含过滤助剂的过滤器进行过滤处理的工序，其中，利用汞压入法测定的所述过滤助剂的平均细孔径为0.1～3.5μm。
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公开(公告)号：CN100529008C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200510085991.9
申请日：2005-07-21
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及研磨液组合物及研磨粒子调配液，含有研磨材料和水，pH值为0.1～7，且满足以下条件：(1)在每1cm3的研磨液组合物或研磨粒子调配液中，大于等于0.56μm但不足1μm的研磨粒子为500000个或以下，(2)大于等于1μm的研磨粒子相对于研磨液组合物或研磨粒子调配液中的所有研磨粒子为0.001重量%或以下；涉及研磨液组合物及研磨粒子调配液的制造方法，具有以下精制工序：(I)用深层型过滤器过滤精制前的研磨液组合物或研磨粒子调配液而得到中间过滤物，(II)用褶皱型过滤器过滤中间过滤物而得到研磨液组合物或研磨粒子调配液，其中在工序I中，过滤器入口压力的波动幅度为50kPa或以下；涉及基板的制造方法，其具有使用研磨液组合物并通过研磨机研磨基板的工序。
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公开(公告)号：CN1733861A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510085991.9
申请日：2005-07-21
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及研磨液组合物及研磨粒子调配液，含有研磨材料和水，pH值为0.1～7，且满足以下条件：(1)在每1cm3的研磨液组合物或研磨粒子调配液中，大于等于0.56μm但不足1μm的研磨粒子为500000个或以下，(2)大于等于1μm的研磨粒子相对于研磨液组合物或研磨粒子调配液中的所有研磨粒子为0.001重量％或以下；涉及研磨液组合物及研磨粒子调配液的制造方法，具有以下精制工序：(I)用深层型过滤器过滤精制前的研磨液组合物或研磨粒子调配液而得到中间过滤物，(II)用褶皱型过滤器过滤中间过滤物而得到研磨液组合物或研磨粒子调配液，其中在工序I中，过滤器入口压力的波动幅度为50kPa或以下；涉及基板的制造方法，其具有使用研磨液组合物并通过研磨机研磨基板的工序。
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公开(公告)号：CN1680509A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN200510064805.3
申请日：2005-04-06
Applicant: 花王株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C09G1/02 , C09K3/1409
Abstract: 本发明涉及一种包含平均粒径为1～30nm的研磨材料和水的研磨液组合物，其中该研磨材料的填充率为79～90重量％；涉及一种基板的制造方法，其包括将上述研磨液组合物引入到基板与研磨垫之间，使其一边与所述基板接触，一边进行研磨的工序；还涉及一种减少被研磨基板的划痕的方法，其包括使用上述研磨液组合物对被研磨基板进行研磨的工序。本发明的研磨液组合物，例如适用于磁盘、磁光盘等磁性记录介质的基板、光掩模基板、光盘、光学透镜、光学反射镜、光学棱镜、半导体基板等精密部件基板的研磨。
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公开(公告)号：CN1161693A
公开(公告)日：1997-10-08
申请号：CN95195775.9
申请日：1995-02-27
Applicant: 花王株式会社
IPC: C07D317/18 , C07D319/06 , C07D493/04 , C10M105/18 , C10N20/00
Abstract: 本发明涉及以含有从一种以上4元以上～10元以下、元数为偶数的多元醇和一种以上特定羰基化合物或其活泼衍生物缩酮或缩醛得到的环状缩酮或环状缩醛为特征的合成润滑油，含有含该环状缩酮或环状缩醛的冷冻机油和氢氟烃的冷冻机工质组合物，以及这些环状缩醛类中的新型化合物及其制法。按照本发明，提供了热稳定性、氧化稳定性优异的、不因水解而产生羧酸、吸湿性低而且廉价的合成润滑油。此外，还可以提供电绝缘性、吸湿性优异、不因水解而产生羧酸而且廉价的冷冻机工质组合物。
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