公开(公告)号：CN114026189B

公开(公告)日：2023-08-11

申请号：CN202080046236.2

申请日：2020-06-19

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 菅原将人 ,  山口哲史 ,  工藤功辉

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105 ,  B24B37/04

Abstract: 本发明在一个方式中提供一种研磨液组合物，其能够确保氧化硅膜的研磨速度，并且提高研磨选择性。本发明在一个方式中涉及一种氧化硅膜用研磨液组合物，其含有氧化铈粒子(成分A)、水溶性高分子(成分B)、阴离子性缩合物(成分C)、及水系介质，成分B是包含下述式(I)所表示的结构单元b1的聚合物。

公开(公告)号：CN114026189A

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN202080046236.2

申请日：2020-06-19

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 菅原将人 ,  山口哲史 ,  工藤功辉

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105 ,  B24B37/04

Abstract: 本发明在一个方式中提供一种研磨液组合物，其能够确保氧化硅膜的研磨速度，并且提高研磨选择性。本发明在一个方式中涉及一种氧化硅膜用研磨液组合物，其含有氧化铈粒子(成分A)、水溶性高分子(成分B)、阴离子性缩合物(成分C)、及水系介质，成分B是包含下述式(I)所表示的结构单元b1的聚合物。