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公开(公告)号：CN117265475A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202310714190.2
申请日：2023-06-16
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
Abstract: 本发明提供一种可效率良好地加热工件并且进行成膜的成膜装置。实施方式的成膜装置具有：腔室，能够使内部为真空；旋转台，设置于腔室内，对多个工件进行保持，以圆周的轨迹进行循环搬送；成膜部，具有对导入至包含成膜材料的靶与旋转台之间的溅镀气体进行等离子体化的等离子体产生器，通过溅镀使成膜材料的粒子堆积于由旋转台进行的循环搬送中的工件来进行成膜；膜处理部，对利用成膜部堆积于由旋转台进行的循环搬送中的工件而成的膜进行处理；多个保持区域，在旋转台中设置于作为旋转轴以外的区域的、与成膜部及膜处理部相向的圆环状的成膜区域，对各个工件进行保持；以及加热部，配置于多个保持区域。
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