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公开(公告)号：CN118737940A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410357139.5
申请日：2024-03-27
Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社
IPC: H01L21/687 , H01L21/67 , B08B3/02 , B08B15/04
Abstract: 本发明的基板处理装置以及基板处理方法能够抑制基板的下表面的污染。基板处理装置包括：旋转保持部，在保持着基板的状态下使所述基板旋转；处理液供给部，在所述基板旋转的状态下对所述基板的上表面及下表面供给处理液；清洗液供给部，在对所述基板的所述上表面及所述下表面供给了所述处理液后，在所述基板旋转的状态下对所述基板的所述上表面及所述下表面供给清洗液；下表面接液槽，能够至少贮存对所述下表面供给的所述清洗液；检测部，检测与贮存在所述下表面接液槽中的所述清洗液相关的清洗液信息；以及控制部，基于所检测出的与所述清洗液相关的清洗液信息，来决定接下来要进行的处理。
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