公开(公告)号：CN107429385B

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201680000765.2

申请日：2016-02-29

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 福冈洋太郎 ,  八木聡介

IPC: C23C14/50

Abstract: 本发明提供能够利用简单的构成，以均一的厚度在立体物等包括多个面的工件上成膜的成膜装置以及成膜工件制造方法。所述成膜装置包括：包含平面的成膜材料的靶材；电源部，将电力施加至靶材；自转部，使作为成膜对象的工件以自转轴为中心而自转；以及公转部，使自转部以与自转轴不同的公转轴为中心而公转，借此，使工件反复地靠近与远离靶材，自转过程中及公转过程中的自转轴固定于使与该自转轴正交的自转轨道面相对于与公转轴正交的公转轨道面具有第1倾斜角度的角度，靶材固定于使平面相对于公转轨道面具有第2倾斜角度的角度。

公开(公告)号：CN107429385A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680000765.2

申请日：2016-02-29

Applicant: 芝浦机械电子装置株式会社

Inventor： 福冈洋太郎 ,  八木聡介

IPC: C23C14/50

Abstract: 本发明提供能够利用简单的构成，以均一的厚度在立体物等包括多个面的工件上成膜的成膜装置及成膜工件制造方法。所述成膜装置包括：包含平面SU3的成膜材料的靶材21；电源部3，将电力施加至靶材21；自转部4，使作为成膜对象的工件W以自转轴AX1为中心而自转；以及公转部5，使自转部4以与自转轴4不同的公转轴AX2为中心而公转，借此，使工件W反复地靠近与远离靶材21，自转过程中及公转过程中的自转轴4固定于使与该自转轴4正交的自转轨道面SU1相对于与公转轴AX2正交的公转轨道面SU2具有第1倾斜角度θ1的角度，靶材21固定于使平面SU3相对于公转轨道面SU2具有第2倾斜角度SU2的角度。