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公开(公告)号:CN101175631B
公开(公告)日:2013-04-10
申请号:CN200680016288.5
申请日:2006-04-10
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H01L39/02 , Y10S428/93 , Y10S505/927
Abstract: 一种超导制品包括标称厚度为tn1的第一超导段、标称厚度为tn2的第二超导段以及连接区域,该连接区域包括用于将第一和第二超导段连接到一起的拼接板。该拼接板叠在沿该连接区域的第一和第二超导段的一部分上,该连接区域具有厚度tjr,其中tjr不大于1.8tn1和1.8tn2中的至少一个。
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公开(公告)号:CN101978435A
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200980110672.5
申请日:2009-02-17
Applicant: 美国超能公司
IPC: H01B12/00
CPC classification number: H01L39/247
Abstract: 一种形成超导制品的方法,该方法包括提供基材带,形成覆盖在该基材带上的超导层,沉积覆盖在超导层上的覆层。所述覆层包含贵金属,其厚度不大于约1.0微米。该方法还包括使用对超导层非反应性的溶液,将该溶液电沉积覆盖在覆层上形成稳定层。超导层具有形成后的临界电流IC(AF)和稳定后的临界电流IC(PS)。IC(PS)至少约为IC(AF)的95%。
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公开(公告)号:CN103210455A
公开(公告)日:2013-07-17
申请号:CN201180054572.2
申请日:2011-09-14
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H02G15/34 , H01L39/02 , H01L39/143 , H01L39/248 , H01R4/68 , Y02E40/648
Abstract: 一种超导制品,包括第一和第二堆叠的超导段。第一堆叠的超导段包括第一和第二超导段且具有标称厚度tn1。第二堆叠的超导段包括第三和第四超导段且具有标称厚度tn2。该超导制品还包括将第一和第三超导段连接在一起的第一接头和将第二和第四超导段连接在一起的第二接头。第一接头沿接合区的至少一部分相邻于第一和第三超导段的部分并桥接第一和第三超导段的部分,且第二接头可沿接合区的至少一部分相邻于第二和第四超导段的部分并桥接第二和第四超导段的部分。接合区可具有厚度tjr,其中tjr不大于1.8tn1和1.8tn2中的至少一个。
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公开(公告)号:CN100450646C
公开(公告)日:2009-01-14
申请号:CN200480015467.8
申请日:2004-05-25
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H01L39/2448 , C23C14/087 , C23C14/22 , C23C14/28 , C23C16/408 , C23C16/486 , H01L39/2441
Abstract: 将离子源照射在将要进行涂布的基材上,从而提高用于制造超导材料的MOCVD、PVD或其它方法。
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公开(公告)号:CN1957428A
公开(公告)日:2007-05-02
申请号:CN200480037018.3
申请日:2004-12-14
Applicant: 美国超能公司
Inventor: V·塞尔瓦曼尼克姆
CPC classification number: C23C8/02 , C23C8/16 , H01L39/2451 , Y10S505/73 , Y10S505/74 , Y10S505/742 , Y10T29/49014
Abstract: 本发明提供了一种高产量的系统,它通过加热涂覆了REBCO前体的有缓冲层的金属衬底带,从而在连续长度的有缓冲层的金属衬底带上面异位地形成诸如稀土-钡-铜的氧化物(REBCO)等超导薄膜。当在工艺室内对这些前体进行加热并引入水蒸汽时,它们发生分解,从而在缓冲层外沿形成功能性的超导薄膜。带有为产生一个很长且很宽的沉积区域而设计的喷头和衬底加热器组件的反应器,如有机金属化学蒸汽沉积(MOCVD)反应器,很适用于本系统的这一工艺。该工艺室在不加热炉壁的场合中可以是冷壁型的,而在加热炉壁的场合中可以是热壁型的。
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公开(公告)号:CN1829571B
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN200480017515.7
申请日:2004-05-25
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H01L39/2441 , C04B35/4508 , C04B35/6264 , C04B2235/3215 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/6584 , C04B2235/79 , C23C16/408 , C23C16/45523 , C23C16/54 , H01L39/128 , Y02T50/67
Abstract: 一种有机化学气相沉积设备以及制造电流容量高的多层高温超导涂布带的方法,所述设备包括多个液体前体源,各自具有相连的泵和汽化器,所述汽化器的出口连通到金属有机化学气相沉积反应器中的多隔室喷头设备。所述多隔室喷头设备靠近有关的基质加热器,它们一起形成位于沉积区中的多沉积段区。
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公开(公告)号:CN101164175B
公开(公告)日:2010-09-08
申请号:CN200480038151.0
申请日:2004-12-14
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H02K3/04 , H01L39/143 , H01L39/2464 , H02K3/02 , H02K55/00 , Y02E40/62
Abstract: 公开了一种超导条带,包括基底、覆在基底上的缓冲层、覆在缓冲层上的超导体层以及覆在超导体层上的电镀稳定剂层。还公开了组成超导条带的部件及其生产和使用方法。所述条带的AC损耗低,并尤其适于在AC损耗衰减很关键的部件中使用,诸如在旋转机械内使用。
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公开(公告)号:CN101175631A
公开(公告)日:2008-05-07
申请号:CN200680016288.5
申请日:2006-04-10
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H01L39/02 , Y10S428/93 , Y10S505/927
Abstract: 一种超导制品包括标称厚度为tn1的第一超导段、标称厚度为tn2的第二超导段以及连接区域,该连接区域包括用于将第一和第二超导段连接到一起的拼接板。该拼接板叠在沿该连接区域的第一和第二超导段的一部分上,该连接区域具有厚度tjr,其中tjr不大于1.8tn1和1.8tn2中的至少一个。
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公开(公告)号:CN101164175A
公开(公告)日:2008-04-16
申请号:CN200480038151.0
申请日:2004-12-14
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H02K3/04 , H01L39/143 , H01L39/2464 , H02K3/02 , H02K55/00 , Y02E40/62
Abstract: 公开了一种超导条带,包括基底、覆在基底上的缓冲层、覆在缓冲层上的超导体层以及覆在超导体层上的电镀稳定剂层。还公开了组成超导条带的部件及其生产和使用方法。所述条带的AC损耗低,并尤其适于在AC损耗衰减很关键的部件中使用,诸如在旋转机械内使用。
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公开(公告)号:CN1798617A
公开(公告)日:2006-07-05
申请号:CN200480015467.8
申请日:2004-05-25
Applicant: 美国超能公司
CPC classification number: H01L39/2448 , C23C14/087 , C23C14/22 , C23C14/28 , C23C16/408 , C23C16/486 , H01L39/2441
Abstract: 将离子源照射在将要进行涂布的基材上,从而提高用于制造超导材料的MOCVD、PVD或其它方法。
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