公开(公告)号：CN118027269A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202311493036.3

申请日：2023-11-10

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： C·A·赫尔策尔 ,  崔莉 ,  朴钟根 ,  E·阿卡德 ,  J·F·卡梅伦

IPC: C08F212/14 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及聚合物、包含其的光致抗蚀剂组合物以及图案形成方法。公开了一种聚合物，其包含衍生自由式(1)表示的第一单体的第一重复单元；以及包含酸不稳定基团、羟芳基、磺酰胺基团、氟醇基团、或其组合的第二重复单元，其中，在式(1)中，P是包含烯键式不饱和碳‑碳双键的可聚合基团；L1是单键或连接基团；Ar是取代或未取代的C6‑30芳香族基团或取代或未取代的C4‑30杂芳香族基团；X是O或S；A是选自‑O‑、‑S‑、‑S(O)‑、‑S(O)2‑、‑C(O)‑、‑C(S)‑、或‑N(Ra)‑的基团；Ra是氢或非氢取代基；并且R1和R2各自是如本文中所定义的，其中该第一重复单元和该第二重复单元在结构上不同。#imgabs0#

公开(公告)号：CN117088795A

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202310561110.4

申请日：2023-05-18

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： 崔莉 ,  E·阿卡德 ,  岑寅杰 ,  C·A·赫尔策尔 ,  J·F·卡梅伦 ,  朴钟根 ,  S·M·科莱 ,  李忠奉

IPC: C07C317/22 ,  C07C69/92 ,  G03F7/004

Abstract: 一种由式(1)表示的化合物：其中，X是具有为r的化合价的基团；每个R1独立地是包含酸不稳定基团的有机基团；m是大于或等于1的整数；k是1至5的整数；并且r是2至10的整数，其中该化合物是非聚合的，并且其中Ar1、L1、L2、R2和R3如本文所定义。