公开(公告)号：CN116264177A

公开(公告)日：2023-06-16

申请号：CN202211598517.6

申请日：2022-12-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 尹泰锡 ,  朴尚禹 ,  河道炅 ,  梁承太 ,  郑富荣 ,  崔文淳 ,  林采永

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供一种用于供应化学液体的装置，该装置包括：储罐，在所述储罐中储存化学液体；排放管线，储存在所述储罐中的所述化学液体通过所述排放管线排放；液位管，所述液位管连接至所述储罐从而检查所述储罐中的所述化学液体的水位，并以与所述储罐中的所述化学液体的水位相同的水位接收所述化学液体；和控制器，所述控制器用于控制安装在所述排放管线中的第一阀，其中所述液位管的一端与所述储罐的上部空间连接，而另一端与所述排放管线连接。

公开(公告)号：CN119275129A

公开(公告)日：2025-01-07

申请号：CN202410772502.X

申请日：2024-06-14

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 林采永 ,  崔文淳

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/10 ,  B08B3/08 ,  B08B13/00 ,  H01L21/02

Abstract: 一种用于处理衬底的装置，包括：液体供应管线；压力罐，被配置为存储液体；循环管线，包括被配置为对液体进行加热的第一加热单元，其中，在液体供应待命状态下，由第一加热单元加热的液体在压力罐中循环，液体供应待命状态是液体被供应到处理室中的衬底之前；加压气体供应管线，被配置为在液体供应待命状态下将加压气体供应给压力罐，并且对气体进行加压；排气管线，被配置为排出压力罐中的气体；以及控制单元，被配置为：在液体供应待命状态下，在液体在压力罐中循环之前，通过在关闭压力罐的状态下打开加压气体供应管线，来控制压力罐中的压力增加到预定压力。

公开(公告)号：CN116230579A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202211175115.5

申请日：2022-09-26

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 安求悦 ,  河道炅 ,  崔文淳 ,  郑富荣 ,  李景训 ,  林采永

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

Abstract: 提供了使用能够快速且稳定地生成混合液的混合装置的基板处理装置。该基板处理装置包括：混合喷嘴，在其内部具有倒锥形状的混合空间，并且包括：第一流入口，设置在混合空间的侧表面；第二流入口，设置在混合空间的上表面；以及排出口，设置在混合空间的下部；第一液态化学品供应部，与第一流入口连接；第二液态化学品供应部，与第二流入口连接；以及供应罐，与排出口连接，其中，第一液态化学品供应部通过第一流入口向混合空间供应第一液态化学品，第二液态化学品供应部通过第二流入口向混合空间供应第二液态化学品，由第一液态化学品和第二液态化学品在混合空间内混合而成的混合液通过排出口供应到供应罐。

公开(公告)号：CN114695174A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202110926197.1

申请日：2021-08-12

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 河道炅 ,  刘在赫 ,  李建旼 ,  崔文淳 ,  林采永

IPC: H01L21/67 ,  H05B1/02

Abstract: 本发明提供药液供应装置及包括其的基板处理装置。基板处理装置可包括提供对基板执行指定的工序的处理空间的工序腔室及向配置在所述工序腔室内的所述基板上供应药液的药液供应装置。所述药液供应装置可包括储存所述药液的药液储存槽、提供从所述药液储存槽向所述基板上供应所述药液的路径的药液供应线路、对从所述药液储存槽供应的所述药液加热的至少一个加热部件、具有测量进入所述至少一个加热部件的所述药液的温度的第一传感器及测量从所述至少一个加热部件出去的所述药液的温度的第二传感器的感测部件、以及根据由所述第一传感器及所述第二传感器测量的温度的差异控制所述至少一个加热部件的工作的控制部件。

公开(公告)号：CN116013808A

公开(公告)日：2023-04-25

申请号：CN202211288412.0

申请日：2022-10-20

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 河道炅 ,  尹泰锡 ,  崔文淳 ,  安求悦 ,  林采永 ,  郑富荣

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：支撑单元，所述支撑单元被配置为支撑基板；以及液体供应单元，所述液体供应单元被配置为将处理液供应到支撑在所述支撑单元上的所述基板上，并且其中所述液体供应单元包括：罐，所述罐被配置为具有容纳空间，该容纳空间用于在其中储存所述处理液；循环管线，所述循环管线被配置为使储存在所述容纳空间中的所述处理液循环；补充管线，所述补充管线被配置为将所述处理液供应至所述容纳空间，并且在所述补充管线处安装有阀；加热器，所述加热器安装在所述循环管线处并且用于加热所述处理液；以及控制器，所述控制器用于控制所述阀。

公开(公告)号：CN115831809A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202211137674.7

申请日：2022-09-19

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 崔文淳 ,  林采永 ,  河道炅 ,  安求悦

IPC: H01L21/67 ,  B65D88/54 ,  B65D90/00 ,  B65D90/54

Abstract: 本发明提供一种液体储存单元及基板处理设备。所述液体储存单元包含：在其中界定有储存空间的罐壳；穿透至该罐壳中且在其上形成有出口的液体出口管；以及穿透至该罐壳中且在其上形成有入口的液体入口管，并且其中第一引导表面设置在该出口与该入口之间。

公开(公告)号：CN115116888A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210124305.8

申请日：2022-02-10

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 李建旼 ,  河道炅 ,  崔文淳 ,  林采永 ,  刘在赫

IPC: H01L21/67 ,  B08B3/02

Abstract: 本发明提供了能够将基板处理液的流入量或消耗量等增加为控制因子以预测基板处理液的温度变化的处理液提供单元及具有其的基板处理装置。所述处理液提供单元包括：处理液存储模块，存储基板处理液；处理液加热模块，加热基板处理液；处理液排出模块，排出基板处理液；处理液供应模块，当基板处理液被排出时，向处理液存储模块供应基板处理液；以及控制模块，基于基板处理液的流入量来预测残留在处理液存储模块的基板处理液的温度。