基板处理设备和驱动基板处理设备的方法

    公开(公告)号:CN119154101A

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN202410665768.4

    申请日:2024-05-27

    Inventor: 金在珉 李建旼

    Abstract: 本发明公开了一种基板处理设备和驱动基板处理设备的方法,当操作者检查处理腔室或电源系统时,其自动地切断供应给主电路断路器和分支电路断路器的电力。用于处理基板的所述基板处理设备包括:过程处理模块,其包括在处理基板的过程中使用的负载;分支电路断路器,其安装在所述过程处理模块的外围并电连接到所述负载;主电路断路器,其电连接到所述分支电路断路器并向所述分支电路断路器供电;以及配电板,其中安装有所述分支电路断路器,并且包括配电板门,其中当所述配电板门打开时,所述主电路断路器切断电力。

    处理液提供单元及具有其的基板处理装置

    公开(公告)号:CN115116888A

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN202210124305.8

    申请日:2022-02-10

    Abstract: 本发明提供了能够将基板处理液的流入量或消耗量等增加为控制因子以预测基板处理液的温度变化的处理液提供单元及具有其的基板处理装置。所述处理液提供单元包括:处理液存储模块,存储基板处理液;处理液加热模块,加热基板处理液;处理液排出模块,排出基板处理液;处理液供应模块,当基板处理液被排出时,向处理液存储模块供应基板处理液;以及控制模块,基于基板处理液的流入量来预测残留在处理液存储模块的基板处理液的温度。

    药液供应装置及包括药液供应装置的基板处理装置

    公开(公告)号:CN114695174A

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202110926197.1

    申请日:2021-08-12

    Abstract: 本发明提供药液供应装置及包括其的基板处理装置。基板处理装置可包括提供对基板执行指定的工序的处理空间的工序腔室及向配置在所述工序腔室内的所述基板上供应药液的药液供应装置。所述药液供应装置可包括储存所述药液的药液储存槽、提供从所述药液储存槽向所述基板上供应所述药液的路径的药液供应线路、对从所述药液储存槽供应的所述药液加热的至少一个加热部件、具有测量进入所述至少一个加热部件的所述药液的温度的第一传感器及测量从所述至少一个加热部件出去的所述药液的温度的第二传感器的感测部件、以及根据由所述第一传感器及所述第二传感器测量的温度的差异控制所述至少一个加热部件的工作的控制部件。

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