公开(公告)号：CN119627545A

公开(公告)日：2025-03-14

申请号：CN202411231229.6

申请日：2024-09-04

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 方济午 ,  金旼永 ,  李周美 ,  李承桓

IPC: H01R13/631 ,  H01R13/639 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本申请提供了一种电端子连接器、衬底支承器和衬底处理设备。电端子连接器包括壳体单元和端子连接单元，壳体单元通过穿透加热器杯安装并且具有壳体环，端子连接单元安装成在壳体单元内往复运动并且具有端子连接部分，电端子附接到端子连接部分并且从端子连接部分拆卸。端子连接部分是可变的，使得当端子连接部分与壳体环分离时，电端子是可插入，并且当端子连接部分与插入的电端子一起插入到壳体环中时，电端子是固定的。

公开(公告)号：CN119511653A

公开(公告)日：2025-02-25

申请号：CN202411005229.4

申请日：2024-07-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 林庆泽 ,  金縡夏 ,  李承桓 ,  李承俊

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/67

Abstract: 本申请提供一种衬底处理装置和衬底处理方法，衬底处理装置包括：冷却腔室，容纳衬底；以及冷却单元，设置在所述冷却腔室内部，所述冷却单元包括：支承件；两个第一板，连接到所述支承件以支承所述衬底，并且在所述支承件的高度方向上彼此间隔开；以及第二板，设置成在所述两个第一板之间上下移动。

公开(公告)号：CN119028870A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202410656923.6

申请日：2024-05-24

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 朴相玄 ,  李承桓 ,  安粹真 ,  林建烨 ,  辛辰基 ,  姜东勋 ,  金铉守 ,  金光洙 ,  吴昌石 ,  李营濬

IPC: H01L21/67

Abstract: 公开了基板处理设备，与现有技术设备相比，缓冲模块的重量可减轻。基板处理设备包括：转位模块；缓冲模块；处理模块；接口模块；转位模块包括：其中放置接收基板的容器的装载端口；设置转位机器人以用于在放置在装载端口中的容器与缓冲模块之间传送基板的转位框架；缓冲模块包括其上放置基板的缓冲单元；处理模块包括：用于对从缓冲模块装载的基板进行冷却的冷却室；用于对从冷却室装载的基板进行液体处理的液体处理室；用于对从冷却室装载的基板进行热处理的热处理室；设置在液体处理室与热处理室之间并设置有传送机器人以用于将基板传送到液体处理室、热处理室和冷却室中的每一者的传送室；当从上方观察时，冷却室和缓冲单元设置在非重叠位置。

公开(公告)号：CN114446825A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202111289258.4

申请日：2021-11-02

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 方济午 ,  安迎曙 ,  李承汉 ,  李承桓 ,  金铉玟

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明构思涉及一种基板处理装置，其包括：加工腔室，其具有第一主体和第二主体；支撑单元，其支撑基板；加热单元，其加热基板；驱动器，其使第一主体和第二主体中的任一个移动；间隔状态检测单元，其在第一主体和第二主体被放置在加工位置时检测第一主体的侧壁和第二主体的侧壁之间的间隔状态；以及控制器，其控制驱动器和间隔状态检测单元，其中间隔状态检测单元包括：压力提供管线，其在第一主体的侧壁和第二主体的侧壁之间提供正压力或负压力；以及压力测量构件，其测量压力提供管线的压力的变化。

公开(公告)号：CN118136565A

公开(公告)日：2024-06-04

申请号：CN202311545400.6

申请日：2023-11-20

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 申景湜 ,  李承桓 ,  李炅炖

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/683

Abstract: 本申请涉及衬底保持装置、保持衬底的方法和用于处理衬底的设备。用于处理衬底的设备可以包括：衬底保持部件，配置为维持和支承衬底；衬底转移部件，配置为将衬底装载到衬底保持部件上并且将衬底从衬底保持部件卸载；以及衬底处理部件，配置为加热衬底或冷却衬底。衬底保持部件可以包括：板，配置为维持和支承衬底；引导部件，配置为将衬底移动到板的中央区域中；以及对准部件，配置为利用真空抽吸机构将引导部件朝向板的中央区域移动。

公开(公告)号：CN120060838A

公开(公告)日：2025-05-30

申请号：CN202411321527.4

申请日：2024-09-23

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 方济午 ,  李承桓 ,  殷吉洙 ,  金善韵

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/02

Abstract: 本发明公开了一种支承板、制造该支承板的方法和具有该支承板的衬底处理装置，该支承板配置成在无电镀覆或电解镀覆期间能够使离子流动，以允许在内流动路径上进行表面处理。支承板包括上板、下板和止动构件。下板具有形成的内流动路径，设置成面向上板，并且具有与内流动路径的拐点中的每个对应地形成的多个穿孔。在上板和下板彼此接合的状态下，止动构件插入穿孔中。因此，通过在其中不可能涂覆或镀覆内流动路径的结构中形成单独的穿孔，在无电镀覆或电解镀覆期间离子的流动是可能的，并且表面处理是可能的。