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公开(公告)号：CN101356454A
公开(公告)日：2009-01-28
申请号：CN200780001192.6
申请日：2007-08-21
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: G02B1/118 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y02E10/542
Abstract: 本发明提供了光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电变换装置。其中，光学元件形成为：在基体表面上，以可视光的波长以下的细微间隔配置有多个由凸部或凹部构成的构造体。各构造体以在基体表面上被配置为呈多列圆弧状轨迹，并形成准六边形格子图案，构造体是在圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
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公开(公告)号：CN101055742B
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200710096532.X
申请日：2007-04-11
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 白鹭俊彦
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261
Abstract: 一种制造光盘母盘的方法，包括步骤：通过将激光施加到具有无机抗蚀剂层的光盘母盘形成基片，测量多个半径位置中的每一个半径位置处的激光的反射率，该激光具有小于无机抗蚀剂层的记录灵敏度的非记录激光功率，通过使用在多个半径位置测量的反射率，生成根据光盘母盘形成基片的半径位置指示记录激光功率的记录功率控制数据，通过基于记录功率控制数据将激光施加到光盘母盘形成基片，同时根据半径位置改变记录功率，在无机抗蚀剂层上形成曝光图案，以及显影具有曝光图案的无机抗蚀剂层，从而制备不平图案。
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公开(公告)号：CN101356454B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200780001192.6
申请日：2007-08-21
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: G02B1/118 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y02E10/542
Abstract: 本发明提供了光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电变换装置。其中，光学元件形成为：在基体表面上，以可视光的波长以下的细微间隔配置有多个由凸部或凹部构成的构造体。各构造体以在基体表面上被配置为呈多列圆弧状轨迹，并形成准六边形格子图案，构造体是在圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
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公开(公告)号：CN1890733A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：CN200480035687.7
申请日：2004-11-30
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G03F7/0043 , C23C14/0036 , C23C14/0641 , C23C14/083 , C23C14/3492 , G03F7/0015 , G03F7/16 , G03F7/167 , G11B7/007 , G11B7/261 , G11B7/266
Abstract: 本发明涉及光盘用母盘的制造方法以及光盘用母盘，并具体涉及一种通过在衬底上溅射形成由过渡金属的不完全氧化物构成的无机光刻胶层作为膜的方法。过渡金属本身或其合金，或者其氧化物用作靶材料，并且氧或氮用作反应气体。通过改变反应气体的比率或成膜输出，可以使无机光刻胶层的氧浓度在厚度方向不同。曝光并且显影无机光刻胶层，从而获得用于设置有凹坑、组群等的精细凹凸图案的光盘的原始盘。当氧浓度增大时，可以实现感光度提高，从而实现感光度沿着无机光刻胶层的厚度方向的变化。从而，可以在单个盘上设置不同深度的凹凸结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1890733B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200480035687.7
申请日：2004-11-30
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G03F7/0043 , C23C14/0036 , C23C14/0641 , C23C14/083 , C23C14/3492 , G03F7/0015 , G03F7/16 , G03F7/167 , G11B7/007 , G11B7/261 , G11B7/266
Abstract: 本发明涉及光盘用母盘的制造方法以及光盘用母盘，并具体涉及一种通过在衬底上溅射形成由过渡金属的不完全氧化物构成的无机光刻胶层作为膜的方法。过渡金属本身或其合金，或者其氧化物用作靶材料，并且氧或氮用作反应气体。通过改变反应气体的比率或成膜输出，可以使无机光刻胶层的氧浓度在厚度方向不同。曝光并且显影无机光刻胶层，从而获得用于设置有凹坑、组群等的精细凹凸图案的光盘的原始盘。当氧浓度增大时，可以实现感光度提高，从而实现感光度沿着无机光刻胶层的厚度方向的变化。从而，可以在单个盘上设置不同深度的凹凸结构。
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公开(公告)号：CN101825730A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN201010180243.X
申请日：2007-08-21
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: G02B1/118 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y02E10/542
Abstract: 本发明提供了光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电变换装置。其中，光学元件形成为：在基体表面上，以可视光的波长以下的细微间隔配置有多个由凸部或凹部构成的构造体。各构造体以在基体表面上被配置为呈多列圆弧状轨迹，并形成准六边形格子图案，构造体是在圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
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公开(公告)号：CN101825730B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010180243.X
申请日：2007-08-21
Applicant: 索尼株式会社 , 索尼碟片数位解决方案股份有限公司
CPC classification number: G02B1/118 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y02E10/542
Abstract: 本发明提供了光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电变换装置。其中，光学元件形成为：在基体表面上，以可视光的波长以下的细微间隔配置有多个由凸部或凹部构成的构造体。各构造体以在基体表面上被配置为呈多列圆弧状轨迹，并形成准六边形格子图案，构造体是在圆弧状轨迹的圆周方向上具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。
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公开(公告)号：CN102332276A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201110197666.7
申请日：2004-11-30
Applicant: 索尼株式会社
CPC classification number: G03F7/0043 , C23C14/0036 , C23C14/0641 , C23C14/083 , C23C14/3492 , G03F7/0015 , G03F7/16 , G03F7/167 , G11B7/007 , G11B7/261 , G11B7/266
Abstract: 本发明涉及光盘用母盘的制造方法以及光盘用母盘，并具体涉及一种通过在衬底上溅射形成由过渡金属的不完全氧化物构成的无机光刻胶层作为膜的方法。过渡金属本身或其合金，或者其氧化物用作靶材料，并且氧或氮用作反应气体。通过改变反应气体的比率或成膜输出，可以使无机光刻胶层的氧浓度在厚度方向不同。曝光并且显影无机光刻胶层，从而获得用于设置有凹坑、组群等的精细凹凸图案的光盘的原始盘。当氧浓度增大时，可以实现感光度提高，从而实现感光度沿着无机光刻胶层的厚度方向的变化。从而，可以在单个盘上设置不同深度的凹凸结构。
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公开(公告)号：CN101055742A
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200710096532.X
申请日：2007-04-11
Applicant: 索尼株式会社
Inventor： 白鹭俊彦
IPC: G11B7/26
CPC classification number: G11B7/261
Abstract: 一种制造光盘母盘的方法，包括步骤：通过将激光施加到具有无机抗蚀剂层的光盘母盘形成基片，测量多个半径位置中的每一个半径位置处的激光的反射率，该激光具有小于无机抗蚀剂层的记录灵敏度的非记录激光功率，通过使用在多个半径位置测量的反射率，生成根据光盘母盘形成基片的半径位置指示记录激光功率的记录功率控制数据，通过基于记录功率控制数据将激光施加到光盘母盘形成基片，同时根据半径位置改变记录功率，在无机抗蚀剂层上形成曝光图案，以及显影具有曝光图案的无机抗蚀剂层，从而制备不平图案。
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