存储系统和存储器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107274925B

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN201710342461.0

    申请日:2013-03-06

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明涉及存储系统和存储器件。存储系统包括:存储器件,包括多个存储单元;驱动电路,被配置为控制所述存储单元;以及存储控制单元,被配置为在所述存储器件记录数据之前,向所述存储器件提供待机电流,其中,所述存储单元中的每一个包括存储层、磁化固定层、包括非磁性材料的设置在所述存储层与所述磁化固定层之间的中间层、设置在所述存储层上方的顶部电极、设置在所述磁化固定层上方的底部电极;其中,电流被配置为在所述顶部电极与所述底部电极之间在层压方向上流动。

    存储元件、存储装置、制造存储元件的方法及磁头

    公开(公告)号:CN104241286B

    公开(公告)日:2018-09-21

    申请号:CN201410256897.4

    申请日:2014-06-10

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明公开了存储元件、存储装置、制造存储元件的方法及磁头。存储元件包括层结构,该层结构包括:存储层,包括垂直于膜表面的磁化,其中,磁化方向对应于信息而改变;磁化固定层,包括垂直于膜表面的磁化,所述磁化成为对于存储在存储层上的信息的基准;隧道势垒层,由氧化物制成,被设置在存储层与磁化固定层之间;以及自旋势垒层,由氧化物制成,设置为与存储层的接触隧道势垒层的表面相反侧的表面接触。低电阻区域形成在形成具有预定的设定膜厚度值的自旋势垒层的一部分中,并且通过在层结构的堆叠方向上流动的电流改变存储层的磁化方向来执行在存储层上的信息的存储。

    磁性元件和存储装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106953005A

    公开(公告)日:2017-07-14

    申请号:CN201611035933.X

    申请日:2012-07-25

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明涉及磁性元件和存储装置,其中,该磁性元件包括:自由磁化层,根据磁体的磁化状态来保持信息;磁化固定层,具有用作被存储在存储层中的信息的基准的磁化;以及绝缘层,由被设置在存储层与磁化固定层之间的非磁体形成,其中,通过利用伴随在自由磁化层、绝缘层以及磁化固定层的层结构的层压方向上流动的电流发生的自旋扭矩磁化反转来反转存储层的磁化来存储信息,并且存储层的尺寸小于磁化的方向被同时改变的尺寸。

    存储元件和存储装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103151455B

    公开(公告)日:2017-04-12

    申请号:CN201210488960.8

    申请日:2012-11-26

    Applicant: 索尼公司

    CPC classification number: G11C11/161 G11C11/15 H01L43/02 H01L43/08 H01L43/10

    Abstract: 本发明公开了存储元件和存储装置。一种存储元件包括分层结构。该分层结构包括存储层、磁化固定层和中间层。存储层具有与膜面垂直的磁化,其中该磁化的方向取决于信息而改变,并且该磁化的方向通过在分层结构的层压方向上施加电流而被改变从而将信息记录在存储层中。磁化固定层具有成为存储层中所存储的信息的基础的、与膜面垂直的磁化,具有包括非磁层和至少两个铁磁层的层压铁钉合结构,并且包括形成在至少两个铁磁层中的任一者上的反铁磁氧化层。中间层由非磁材料形成并且被设置在存储层和磁化固定层之间。

    存储元件和存储设备
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103137852B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201210484675.9

    申请日:2012-11-23

    Applicant: 索尼公司

    Abstract: 本发明提供了一种存储元件和存储设备。存储元件包括分层结构:存储层,其具有根据信息来变化的磁化方向,通过在分层结构的层压方向上施加电流来改变磁化方向以将信息记录在存储层中,存储层包括第一铁磁层,其具有倾斜于与膜表面垂直的方向的磁化方向,键合层,其层压在第一铁磁层上,以及第二铁磁层,其层压在键合层上并经由键合层与第一铁磁层键合,第二铁磁层具有倾斜于与膜表面垂直的方向的磁化方向;磁化固定层,其具有固定的磁化方向;中间层,其被配置在存储层与磁化固定层之间,并与第一铁磁层接触;以及覆盖层,其与第二铁磁层接触。

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