公开(公告)号：CN103129063A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201210480217.8

申请日：2012-11-22

Applicant: 索尼公司

Inventor： 两角武 ,  福田智男 ,  松尾拓治 ,  李成吉

IPC: B32B27/06 ,  B32B9/04 ,  B32B27/30 ,  B32B27/36

CPC classification number: B32B15/08 ,  B05D7/04 ,  B32B27/06 ,  C08J7/045 ,  C08J2367/02 ,  C23C14/06 ,  Y10T428/31855

Abstract: 本发明涉及一种气体阻挡性基体材料和气体阻挡性层压体。该气体阻挡性基体材料包括基体材料、设置在该基体材料的至少一个主面上的树脂层以及设置在树脂层的一个主面上且包含无机氧化物的无机氧化物层，其中，所述树脂层通过固化包含具有环烷烃结构的可聚合化合物或具有高酸值邻苯二甲酸结构的可聚合化合物的树脂组合物来制成。

公开(公告)号：CN103031538A

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201210376946.9

申请日：2012-09-29

Applicant: 索尼公司

Inventor： 竹中博也 ,  平塚亮一 ,  关根昌章 ,  松尾拓治 ,  本多秀利

IPC: C23C16/44

CPC classification number: C23C16/45551 ,  C23C16/545

Abstract: 本发明提供了一种自限反应沉积设备及自限反应沉积方法。该自限反应沉积设备包括第一导向辊、第二导向辊、以及至少一个第一头部。第一导向辊在支撑通过辊对辊工艺输送的基材的第一表面的同时将基材的输送方向从第一方向变成不与第一方向平行的第二方向。第二导向辊在支撑基材的第一表面的同时将基材的输送方向从第二方向变成不与第二方向平行的第三方向。至少一个第一头部布置在第一导向辊与第二导向辊之间，面向与基材的第一表面相对的第二表面，并朝向第二表面排放用于自限反应沉积的原料气体。