公开(公告)号：CN1082246C

公开(公告)日：2002-04-03

申请号：CN96107213.X

申请日：1996-03-27

Applicant: 索尼公司

Inventor： 嵯峨幸一郎 ,  小谷田作夫 ,  服部毅

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/08

Abstract: 一种清洁处理基片表面的方法，其中，清洁处理基片工艺的包括利用酸溶液、氧化溶液、或碱溶液清洁处理基片表面的步骤的第1步骤，包括清除在基片表面上形成的自然氧化膜的步骤。

公开(公告)号：CN1144399A

公开(公告)日：1997-03-05

申请号：CN96107213.X

申请日：1996-03-27

Applicant: 索尼公司

Inventor： 嵯峨幸一郎 ,  小谷田作夫 ,  服部毅

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/02052 ,  B08B3/08

Abstract: 一种清洁处理基片表面的方法，其中，清洁处理基片工艺的包括利用酸溶液、氧化溶液、或碱溶液清洁处理基片表面的步骤的第1步骤，包括清除在基片表面上形成的自然氧化膜的步骤。