晶片封装体的制造方法及晶片封装体

    公开(公告)号:CN111146083B

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN201911045389.0

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明提供一种晶片封装体的制造方法及晶片封装体,该方法包含:图案化晶圆以形成切割道,其中晶圆下方的透光功能层位于切割道中,透光功能层位于晶圆与载体之间,晶圆具有朝向切割道的外壁面,且外壁面与晶圆朝向透光功能层的表面之间具有第一夹角;沿切割道切割透光功能层与载体,以形成晶片封装体,其中晶片封装体包含晶片、透光功能层与载体;以及图案化晶片以形成定义感测区的开口,其中透光功能层位于开口中,晶片具有围绕开口的内壁面及背对内壁面的外壁面,内壁面与晶片朝向透光功能层的表面之间具有第二夹角,且第一夹角与第二夹角不同。此制造方法可避免晶片的感测区在执行切割制程时受到损伤,且可应用在不同种类的光学感测器。

    晶片封装体的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115020216A

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202210890658.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明提供一种晶片封装体的制造方法及晶片封装体,该方法包含:图案化晶圆以形成切割道,其中晶圆下方的透光功能层位于切割道中,透光功能层位于晶圆与载体之间,晶圆具有朝向切割道的外壁面,且外壁面与晶圆朝向透光功能层的表面之间具有第一夹角;沿切割道切割透光功能层与载体,以形成晶片封装体,其中晶片封装体包含晶片、透光功能层与载体;以及图案化晶片以形成定义感测区的开口,其中透光功能层位于开口中,晶片具有围绕开口的内壁面及背对内壁面的外壁面,内壁面与晶片朝向透光功能层的表面之间具有第二夹角,且第一夹角与第二夹角不同。此制造方法可避免晶片的感测区在执行切割制程时受到损伤,且可应用在不同种类的光学感测器。

    晶片封装体的制造方法及晶片封装体

    公开(公告)号:CN111146083A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201911045389.0

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明提供一种晶片封装体的制造方法及晶片封装体,该方法包含:图案化晶圆以形成切割道,其中晶圆下方的透光功能层位于切割道中,透光功能层位于晶圆与载体之间,晶圆具有朝向切割道的外壁面,且外壁面与晶圆朝向透光功能层的表面之间具有第一夹角;沿切割道切割透光功能层与载体,以形成晶片封装体,其中晶片封装体包含晶片、透光功能层与载体;以及图案化晶片以形成定义感测区的开口,其中透光功能层位于开口中,晶片具有围绕开口的内壁面及背对内壁面的外壁面,内壁面与晶片朝向透光功能层的表面之间具有第二夹角,且第一夹角与第二夹角不同。此制造方法可避免晶片的感测区在执行切割制程时受到损伤,且可应用在不同种类的光学感测器。

    光学晶片封装体及其制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111834295A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN202010323403.5

    申请日:2020-04-22

    Abstract: 本发明提供一种光学晶片封装体及其制造方法。光学晶片封装体包括:一第一透明基底、一第二透明基底以及一间隔层。第一透明基底与第二透明基底分别具有一第一表面及与其相对的一第二表面,且第一透明基底的厚度不同于第二透明基底的厚度。第二透明基底位于第一透明基底上方,且间隔层接合于第一透明基底的第二表面与第二透明基底的第一表面之间。一凹口区自第二透明基底的第二表面延伸至第一透明基底内,使第一透明基底具有一阶梯型侧壁。本发明可避免光学晶片封装体产生外观缺陷、增加切割效能以及具有较佳的封装体尺寸控制,进而增加良率。

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