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公开(公告)号：CN117792318A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311268674.5
申请日：2023-09-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法，能够容易地形成深度不同的槽。振动元件的制造方法包括：准备工序，准备具有处于正反关系的第一面和第二面的石英基板；第一成膜工序，在所述第一面依次重叠第一基底膜、第二基底膜和第一保护膜而形成第一层叠体；第一构图工序，对所述第一层叠体进行构图，在元件形成区域的除了第一槽形成区域和第二槽形成区域以外的区域上保留第一基底膜、第二基底膜和第一保护膜，在所述第一槽形成区域保留所述第一基底膜和所述第二基底膜，在所述第二槽形成区域保留所述第一基底膜；以及第一干式蚀刻工序，隔着所述第一层叠体从所述第一面侧对所述石英基板进行干式蚀刻。
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公开(公告)号：CN116260411A
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202211561611.4
申请日：2022-12-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。在振动元件的制造方法中，振动元件包括具有第1面和第2面的第1振动臂和第2振动臂，该制造方法包括：准备工序，准备石英基板；第1保护膜形成工序，在石英基板的第1基板面形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1保护膜进行干蚀刻；第2保护膜形成工序，在石英基板的第2基板面形成第2保护膜；以及第2干蚀刻工序，隔着第2保护膜进行干蚀刻，在第1干蚀刻工序中，从第1面到第2面形成第1振动臂和第2振动臂的外形，在第2干蚀刻工序中，不形成第1振动臂和第2振动臂的外形。
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公开(公告)号：CN114978096A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210161347.9
申请日：2022-02-22
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法。提供能够抑制槽深度的偏差的振动元件的制造方法。振动元件的制造方法包括：准备工序，准备具有第1面和第2面的石英基板；保护膜形成工序，在石英基板的第1面上，在除了形成槽的槽形成区域以及位于形成第1振动臂的第1振动臂形成区域与形成第2振动臂的第2振动臂形成区域之间的臂间区域之外形成保护膜；以及干蚀刻工序，隔着保护膜从第1面侧对石英基板进行干蚀刻，形成槽和第1振动臂以及第2振动臂的外形。而且，在设干蚀刻工序中形成的槽的深度为Wa、外形的深度为Aa时，满足Wa/Aa
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公开(公告)号：CN116015236A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202211285050.X
申请日：2022-10-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。振动元件的制造方法包括：第1底膜形成工序，在石英基板的第1基板面中的第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域形成第1底膜；第1保护膜形成工序，在第1底膜中的第1堤部形成区域形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1底膜和第1保护膜对石英基板进行干蚀刻；第2底膜形成工序，在石英基板的第2基板面中的第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域形成第2底膜；第2保护膜形成工序，在第2底膜中的第2堤部形成区域形成第2保护膜；以及第2干蚀刻工序，隔着第2底膜和第2保护膜对石英基板进行干蚀刻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100481548C
公开(公告)日：2009-04-22
申请号：CN200610057739.1
申请日：2006-02-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H03H9/1035 , H03H9/0595
Abstract: 本发明提供即使施加落下等的冲击，也能防止连接部破损的使耐冲击性提高的压电振动片和压电振动器。作为本发明的压电振动片的一例的石英振动片(10)使用石英基板(11)，并由以下构成：主振动部(12)，形成在主振动部(12)的表背面(23、24)上的激励电极(13a、13b)，大致沿着主振动部(12)的外侧设置的外框部(20)，以及连接主振动部(12)和外框部(20)的连接部(18a、18b)。连接部(18a、18b)由槽部(16a、16b、16c)和平坦部(17a、17b)构成。主振动部(12)使用设置在其周围的连接部(18a、18b)和贯通孔(15)来形成4端(4边)，至少一端由于贯通孔(15)而成为开放端(14)。
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公开(公告)号：CN116054768A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202211328490.9
申请日：2022-10-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。振动元件的制造方法包括：第1保护膜形成工序，形成第1保护膜；第1干蚀刻工序，隔着第1保护膜进行干蚀刻而形成第1槽和振动臂的外形；第2保护膜形成工序，在第1槽中形成第2保护膜；第2干蚀刻工序，隔着第2保护膜进行干蚀刻；第3保护膜形成工序，形成第3保护膜；以及第3干蚀刻工序，隔着第3保护膜进行干蚀刻而形成第2槽和振动臂的外形；第4保护膜形成工序，在第2槽中形成第4保护膜；以及第4干蚀刻工序，隔着第4保护膜进行干蚀刻。
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公开(公告)号：CN115882802A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211172459.0
申请日：2022-09-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。能够一并形成外形和槽。包括在石英基板的第1基板面上形成保护膜的保护膜形成工序以及隔着保护膜对石英基板进行干蚀刻的干蚀刻工序，在设位于形成第1振动臂的第1振动臂形成区域和形成第2振动臂的第2振动臂形成区域之间的臂间区域中的保护膜的厚度为T1、形成槽的槽形成区域中的保护膜的厚度为T2、第1振动臂形成区域和第2振动臂形成区域中除槽形成区域以外的区域中的保护膜的厚度为T3时，保护膜满足T1
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公开(公告)号：CN114826183A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210099654.9
申请日：2022-01-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H03H3/02
Abstract: 振动元件的制造方法。提供槽深的偏差较少、可得到稳定振动特性的振动元件的制造方法。在振动元件的制造方法中，该振动元件的制造方法具有基部以及从所述基部沿着第1方向延伸并沿着与所述第1方向交叉的第2方向排列的第1振动臂和第2振动臂，在所述第1振动臂的两主面和所述第2振动臂的两主面具有带底的槽，该制造方法包含：准备工序，准备石英基板；保护膜形成工序，在所述石英基板的除了槽区域以外的区域形成保护膜，所述槽区域是形成所述槽的区域；以及干蚀刻工序，隔着所述保护膜对所述石英基板进行干蚀刻而形成所述槽，设置在所述第1振动臂和所述第2振动臂中的至少任意一方上的所述槽具有沿着所述第2方向排列的第1槽和第2槽。
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公开(公告)号：CN117792317A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311266441.1
申请日：2023-09-27
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 振动元件的制造方法，能够容易地形成深度不同的第一槽和第二槽。振动元件的制造方法包含：准备工序，准备具有处于正反关系的第一面和第二面的石英基板；第一保护膜形成工序，在将石英基板的形成振动元件的区域作为元件形成区域、将形成第一槽的区域作为第一槽形成区域、将形成第二槽的区域作为第二槽形成区域时，在元件形成区域的除了第一槽形成区域和第二槽形成区域以外的区域上形成第一保护膜；第一干式蚀刻工序，隔着第一保护膜从第一面侧对石英基板进行干式蚀刻；第二保护膜形成工序，在第一槽形成区域上形成第二保护膜；以及第二干式蚀刻工序，隔着第一保护膜和第二保护膜从第一面侧对石英基板进行干式蚀刻。
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