MEMS器件
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102602877B

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201210098100.3

    申请日:2007-10-08

    CPC classification number: B81B3/0086

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件,该MEMS器件在保持结构体的机械特性的同时降低了电阻值,并具有优良的工作特性。该MEMS器件具有:在硅基板(1)上形成的由多晶硅构成的固定电极(10);可动电极(20),其与形成在硅基板(1)上的氮化膜(3)隔开间隙并以机械可动的状态配置,而且由多晶硅构成;以及配线层叠部,其在可动电极(20)周围形成,并以覆盖固定电极(10)的一部分的方式形成,该配线层叠部按顺序层叠有第一层间绝缘膜(13)、第一配线层(23)、第二层间绝缘膜(14)、第二配线层(24)以及保护膜(19),固定电极(10)的被上述配线层叠部覆盖的部分转化为了硅化物,形成有硅化物部分(25)。

    MEMS器件及其制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102602876A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201210097932.3

    申请日:2007-10-08

    CPC classification number: B81B3/0086

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件及其制造方法,该MEMS器件在保持结构体的机械特性的同时降低了电阻值,并具有优良的工作特性。该MEMS器件具有:在硅基板(1)上形成的由多晶硅构成的固定电极(10);可动电极(20),其与形成在硅基板(1)上的氮化膜(3)隔开间隙并以机械可动的状态配置,而且由多晶硅构成;以及配线层叠部,其在可动电极(20)周围形成,并以覆盖固定电极(10)的一部分的方式形成,该配线层叠部按顺序层叠有第一层间绝缘膜(13)、第一配线层(23)、第二层间绝缘膜(14)、第二配线层(24)以及保护膜(19),固定电极(10)的被上述配线层叠部覆盖的部分转化为了硅化物,形成有硅化物部分(25)。

    MEMS器件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101891140A

    公开(公告)日:2010-11-24

    申请号:CN201010242902.8

    申请日:2007-10-17

    CPC classification number: B81B3/0086 B81B2201/0271

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件,该MEMS器件可以减少MEMS结构体和半导体基板之间的寄生电容。MEMS器件(1)具备MEMS结构体(30),该MEMS结构体(30)具有隔着绝缘层形成在半导体基板(10)上的固定电极20和可动电极(26),在固定电极(20)的下方的半导体基板(10)上形成有阱(13),当固定电极(20)被施加正的电压时,阱(13)是p型阱。另外,对阱(13)施加电压以使阱(13)成为耗尽状态。该电压为使阱(13)维持耗尽状态的电压。

    MEMS器件及其制造方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101164863B

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN200710162734.X

    申请日:2007-10-08

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件及其制造方法,该MEMS器件在保持结构体的机械特性的同时降低了电阻值,并具有优良的工作特性。该MEMS器件具有:在硅基板(1)上形成的由多晶硅构成的固定电极(10);可动电极(20),其与形成在硅基板(1)上的氮化膜(3)隔开间隙并以机械可动的状态配置,而且由多晶硅构成;以及配线层叠部,其在可动电极(20)周围形成,并以覆盖固定电极(10)的一部分的方式形成,该配线层叠部按顺序层叠有第一层间绝缘膜(13)、第一配线层(23)、第二层间绝缘膜(14)、第二配线层(24)以及保护膜(19),固定电极(10)的被上述配线层叠部覆盖的部分转化为了硅化物,形成有硅化物部分(25)。

    MEMS器件
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102602877A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201210098100.3

    申请日:2007-10-08

    CPC classification number: B81B3/0086

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件,该MEMS器件在保持结构体的机械特性的同时降低了电阻值,并具有优良的工作特性。该MEMS器件具有:在硅基板(1)上形成的由多晶硅构成的固定电极(10);可动电极(20),其与形成在硅基板(1)上的氮化膜(3)隔开间隙并以机械可动的状态配置,而且由多晶硅构成;以及配线层叠部,其在可动电极(20)周围形成,并以覆盖固定电极(10)的一部分的方式形成,该配线层叠部按顺序层叠有第一层间绝缘膜(13)、第一配线层(23)、第二层间绝缘膜(14)、第二配线层(24)以及保护膜(19),固定电极(10)的被上述配线层叠部覆盖的部分转化为了硅化物,形成有硅化物部分(25)。

    MEMS器件
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101168434B

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN200710181944.3

    申请日:2007-10-17

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件,该MEMS器件可以减少MEMS结构体和半导体基板之间的寄生电容。MEMS器件(1)具备MEMS结构体(30),该MEMS结构体(30)具有隔着绝缘层形成在半导体基板(10)上的固定电极20和可动电极(26),在固定电极(20)的下方的半导体基板(10)上形成有阱(13),当固定电极(20)被施加正的电压时,阱(13)是p型阱。另外,对阱(13)施加电压以使阱(13)成为耗尽状态。该电压为使阱(13)维持耗尽状态的电压。

    MEMS开关以及MEMS开关的制造方法

    公开(公告)号:CN101118819A

    公开(公告)日:2008-02-06

    申请号:CN200710140210.0

    申请日:2007-08-03

    CPC classification number: H01H59/0009 H01C10/50 Y10T29/49105

    Abstract: 本发明提供一种MEMS开关以及MEMS开关的制造方法。以往,当将MEMS开关应用于分压电路时,因为MEMS开关的电阻被抑制得较低,所以需要外附分压用的电阻。因此,MEMS开关周边的电路部件数增大。因而,存在芯片面积增加,芯片内部的温度分布的绝对值增大,各电阻间的温度产生分布,由于电阻具有的温度系数而使电阻值相对变动,从分压电路得到的电压值的精度降低的问题。为了解决上述问题,本发明对MEMS开关的可动部分使用了具有电阻的可动电阻体。由于开关自身具有电阻,因此可以省略与MEMS开关连接的分压用的电阻。因此,可以使芯片面积小型化,抑制芯片内部的温度分布的绝对值,并抑制因电阻具有的温度系数所导致的电阻值相对变动。

    MEMS器件及其制造方法
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102602876B

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201210097932.3

    申请日:2007-10-08

    CPC classification number: B81B3/0086

    Abstract: 本发明提供一种MEMS器件及其制造方法,该MEMS器件在保持结构体的机械特性的同时降低了电阻值,并具有优良的工作特性。该MEMS器件具有:在硅基板(1)上形成的由多晶硅构成的固定电极(10);可动电极(20),其与形成在硅基板(1)上的氮化膜(3)隔开间隙并以机械可动的状态配置,而且由多晶硅构成;以及配线层叠部,其在可动电极(20)周围形成,并以覆盖固定电极(10)的一部分的方式形成,该配线层叠部按顺序层叠有第一层间绝缘膜(13)、第一配线层(23)、第二层间绝缘膜(14)、第二配线层(24)以及保护膜(19),固定电极(10)的被上述配线层叠部覆盖的部分转化为了硅化物,形成有硅化物部分(25)。

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