公开(公告)号：CN115236903B

公开(公告)日：2023-12-12

申请号：CN202210415164.5

申请日：2022-04-20

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宫胁大介

IPC: G02F1/1343 ,  G02F1/1337

Abstract: 电光装置及电子设备。抑制由离子性杂质引起的显示不良的发生。液晶装置(100)在显示区域(E)具备第1像素电极(15)，在显示区域(E)的外侧具备第2像素电极(19)和扫描线驱动电路TFT(30)与电路隔离地设置，第2像素电极(19)向与电路重叠的区域延伸。(102)等电路，与第2像素电极(19)对应地设置的

公开(公告)号：CN105527743A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201510670366.4

申请日：2015-10-13

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 立野善丈 ,  宫胁大介 ,  谷俊树 ,  中川雅嗣

IPC: G02F1/1335 ,  G09F9/35 ,  G03B21/14

CPC classification number: G02F1/133526 ,  G02B3/0056 ,  G02B3/0068 ,  G02F1/133512 ,  G02F1/133514 ,  G02F1/134336 ,  G02F2001/133567 ,  G03B21/006 ,  H04N9/3105 ,  G03B21/14 ,  G09F9/35

Abstract: 本发明提供考虑一对基板贴合时的偏离而对像素的开口要素的位置进行校正来难以产生显示不均的电光装置、电子设备。本实施方式的电光装置特征为：具备一对基板、在一对基板之中的一方基板对像素的开口部的大小和/或位置进行规定的第1开口要素和在一对基板之中的另一方基板对像素的开口部的大小和/或位置进行规定的第2开口要素(微透镜ML)，以一方基板的第1开口要素的位置为基准的另一方基板的第2开口要素(微透镜ML)的位置校正为，在从配置有多个像素的像素区域(E)的中心朝向像素区域(E)的缘部的一个方向上，随着从像素区域(E)的中心侧离开而逐渐偏离得大。

公开(公告)号：CN105027186A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：CN201480011800.1

申请日：2014-03-03

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宫胁大介 ,  伊藤智

IPC: G09F9/30 ,  G02B5/02 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133526 ,  C23C16/50 ,  G02F1/133504 ,  G02F1/133524 ,  G02F2001/133302 ,  G09F9/30 ,  H01L27/1218

Abstract: 本发明稳定形成适用于棱镜元件的具有陡峭的斜面的槽。本发明具备：以第1斜面(72a、72b)及第2斜面(73a、73b)从背面(6b)朝向表面(6a)的方式配置的基板本体(6)；覆盖第1斜面及第2斜面的第1绝缘膜(81)；第2槽部(75)，其具有覆盖上述第1斜面的上述第1绝缘膜(81)的表面即第3斜面(76a、76b)和覆盖上述第2斜面的上述第1绝缘膜(81)的表面即第4斜面(77a、77b)，沿着从上述背面(6b)侧朝向上述表面(6a)侧的方向变宽；和覆盖上述第2槽部(75)及上述第1绝缘膜(81)的第2绝缘膜(82)，第2绝缘膜(82)的覆盖上述第2槽部(75)的部分的一部分与上述第3斜面具有间隔，上述第2斜面配置于上述第1斜面的上述表面(6a)侧，上述第2斜面和上述法线所成的角度比上述第1斜面和上述法线所成的角度大。

公开(公告)号：CN115236903A

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202210415164.5

申请日：2022-04-20

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 宫胁大介

IPC: G02F1/1343 ,  G02F1/1337

Abstract: 电光装置及电子设备。抑制由离子性杂质引起的显示不良的发生。液晶装置(100)在显示区域(E)具备第1像素电极(15)，在显示区域(E)的外侧具备第2像素电极(19)和扫描线驱动电路(102)等电路，与第2像素电极(19)对应地设置的TFT(30)与电路隔离地设置，第2像素电极(19)向与电路重叠的区域延伸。