公开(公告)号：CN110312967A

公开(公告)日：2019-10-08

申请号：CN201880008567.X

申请日：2018-01-24

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： M·A·阿德尔 ,  A·玛纳森 ,  W·皮尔逊 ,  A·莱维 ,  P·苏布拉马尼扬 ,  L·叶鲁舍米 ,  崔东燮 ,  H·浩 ,  D·阿鲁穆特 ,  J·鲁滨逊

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种工艺控制系统，其可包含控制器，其经配置以：在当前层的光刻步骤之后，从显影后检验ADI工具接收ADI数据；在所述当前层的曝光步骤之后，从蚀刻后检验AEI工具接收AEI叠加数据；运用ADI数据及AEI叠加数据来训练非零偏移预测器，以从输入ADI数据预测非零偏移；使用ADI数据及由所述非零偏移预测器产生的非零偏移来产生光刻工具的控制参数的值；及将所述控制参数的所述值提供到用于制造至少一个生产样本上的所述当前层的所述光刻工具。

公开(公告)号：CN110312967B

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN201880008567.X

申请日：2018-01-24

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： M·A·阿德尔 ,  A·玛纳森 ,  W·皮尔逊 ,  A·莱维 ,  P·苏布拉马尼扬 ,  L·叶鲁舍米 ,  崔东燮 ,  H·浩 ,  D·阿鲁穆特 ,  J·鲁滨逊

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种工艺控制系统，其可包含控制器，其经配置以：在当前层的光刻步骤之后，从显影后检验ADI工具接收ADI数据；在所述当前层的曝光步骤之后，从蚀刻后检验AEI工具接收AEI叠加数据；运用ADI数据及AEI叠加数据来训练非零偏移预测器，以从输入ADI数据预测非零偏移；使用ADI数据及由所述非零偏移预测器产生的非零偏移来产生光刻工具的控制参数的值；及将所述控制参数的所述值提供到用于制造至少一个生产样本上的所述当前层的所述光刻工具。