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发明公开
使用校正板校正光学系统的像差及迹变审中-实审

公开(公告)号：CN116670499A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202280008758.2

申请日：2022-01-28

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 黄海峰 , 石瑞芳 , J·沃尔什 , M·林赛 , E·韦拉

IPC: G01N21/88

Abstract: 公开一种具有像差校正的光学系统。所述光学系统可包含照明源。所述光学系统可包含检测器。所述光学系统可包含经配置以基于来自所述照明源的照明将样本成像到所述检测器上的一或多个集光光学器件。所述光学系统可包含定位于所述一或多个集光光学器件的一或多个光瞳平面中的两个或更多个像差校正板。所述两个或更多个像差校正板可提供两个或更多个线性独立像差项的至少部分校正。所述两个或更多个像差校正板中的任一特定者可具有为所述两个或更多个线性独立像差项中的单个特定像差项提供选定校正量的空间变化厚度轮廓。

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