公开(公告)号：CN107924852B

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201680051207.9

申请日：2016-09-01

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 阿卜杜勒拉赫曼(阿波)·塞兹吉内尔 ,  E·韦拉 ,  B·加纳帕蒂 ,  刘燕维

IPC: H01L21/66

Abstract: 利用成像系统检验光罩，以获得在所述光罩上的结构的经测量图像，且所述结构具有未知临界尺寸CD。使用模型、使用描述用于在所述光罩上形成所述结构的图案的设计数据库来产生经计算图像。所述模型基于以下项产生所述经计算图像：所述结构的光罩材料的光学性质、所述成像系统的计算模型及可调整CD。通过调整所述可调整CD且迭代地重复产生经计算图像的所述操作而最小化所述经测量图像与所述经计算图像之间的差值的范数，以针对所述结构的所述未知CD获得最终CD。对所述可调整CD及所述成像系统的一或多个不确定参数同时执行最小化所述差值的所述范数。

公开(公告)号：CN116670499A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202280008758.2

申请日：2022-01-28

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 黄海峰 ,  石瑞芳 ,  J·沃尔什 ,  M·林赛 ,  E·韦拉

IPC: G01N21/88

Abstract: 公开一种具有像差校正的光学系统。所述光学系统可包含照明源。所述光学系统可包含检测器。所述光学系统可包含经配置以基于来自所述照明源的照明将样本成像到所述检测器上的一或多个集光光学器件。所述光学系统可包含定位于所述一或多个集光光学器件的一或多个光瞳平面中的两个或更多个像差校正板。所述两个或更多个像差校正板可提供两个或更多个线性独立像差项的至少部分校正。所述两个或更多个像差校正板中的任一特定者可具有为所述两个或更多个线性独立像差项中的单个特定像差项提供选定校正量的空间变化厚度轮廓。

公开(公告)号：CN107924852A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680051207.9

申请日：2016-09-01

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： 阿卜杜勒拉赫曼(阿波)·塞兹吉内尔 ,  E·韦拉 ,  B·加纳帕蒂 ,  刘燕维

IPC: H01L21/66

Abstract: 利用成像系统检验光罩，以获得在所述光罩上的结构的经测量图像，且所述结构具有未知临界尺寸CD。使用模型、使用描述用于在所述光罩上形成所述结构的图案的设计数据库来产生经计算图像。所述模型基于以下项产生所述经计算图像：所述结构的光罩材料的光学性质、所述成像系统的计算模型及可调整CD。通过调整所述可调整CD且迭代地重复产生经计算图像的所述操作而最小化所述经测量图像与所述经计算图像之间的差值的范数，以针对所述结构的所述未知CD获得最终CD。对所述可调整CD及所述成像系统的一或多个不确定参数同时执行最小化所述差值的所述范数。