公开(公告)号：CN114667473B

公开(公告)日：2023-07-07

申请号：CN202080078120.7

申请日：2020-11-18

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： M·德斯泰恩 ,  J·萨维 ,  E·布塔伊娃 ,  S·利汉斯基 ,  G·德尔加多

IPC: G02B27/00 ,  G02B7/02 ,  G02B7/182 ,  G02B1/10 ,  G02B1/02

Abstract: 本发明公开一种用于缓解由真空紫外(VUV)曝光对光学元件引起的损坏的系统。所述系统包含经配置以产生VUV的光源及容纳所选择的分压的一或多种气态氟基化合物的室。所述系统包含一或多个光学元件。所述一或多个光学元件定位于所述室内且暴露于所述一或多种气态氟基化合物。由所述光源产生的所述VUV光具有足以将所述室内的所述氟基化合物解离成初级产物的能量。

公开(公告)号：CN114667473A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202080078120.7

申请日：2020-11-18

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： M·德斯泰恩 ,  J·萨维 ,  E·布塔伊娃 ,  S·利汉斯基 ,  G·德尔加多

IPC: G02B27/00 ,  G02B7/02 ,  G02B7/182 ,  G02B1/10 ,  G02B1/02

Abstract: 本发明公开一种用于缓解由真空紫外(VUV)曝光对光学元件引起的损坏的系统。所述系统包含经配置以产生VUV的光源及容纳所选择的分压的一或多种气态氟基化合物的室。所述系统包含一或多个光学元件。所述一或多个光学元件定位于所述室内且暴露于所述一或多种气态氟基化合物。由所述光源产生的所述VUV光具有足以将所述室内的所述氟基化合物解离成初级产物的能量。