公开(公告)号：CN118315306A

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN202410414128.6

申请日：2018-12-20

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： P·悟卡达拉 ,  M·D·史密斯 ,  A·莱维 ,  P·迪贺 ,  D·米勒

IPC: H01L21/67 ,  G03F7/20 ,  H01L21/66 ,  H01L21/033

Abstract: 本申请实施例涉及半导体生产期间的过程诱导位移表征。本发明揭示一种控制器，其经配置以：在至少一个离散背侧膜沉积过程之前对半导体晶片执行至少第一表征过程；在所述至少一个离散背侧膜沉积过程之后执行至少额外表征过程；基于至少所述第一表征过程及至少所述额外表征过程确定经由所述至少一个离散背侧膜沉积过程沉积于所述半导体晶片上的至少一个离散背侧膜的膜力或一或多个平面内位移中的至少一者；及经由前馈回路或反馈回路中的至少一者将所述膜力或所述一或多个平面内位移中的至少一者提供到至少一个过程工具以改进一或多个制作过程的性能。

公开(公告)号：CN112041975B

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN201880092339.5

申请日：2018-12-20

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： P·悟卡达拉 ,  M·D·史密斯 ,  A·莱维 ,  P·迪贺 ,  D·米勒

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/033

Abstract: 本发明揭示一种控制器，其经配置以：在至少一个离散背侧膜沉积过程之前对半导体晶片执行至少第一表征过程；在所述至少一个离散背侧膜沉积过程之后执行至少额外表征过程；基于至少所述第一表征过程及至少所述额外表征过程确定经由所述至少一个离散背侧膜沉积过程沉积于所述半导体晶片上的至少一个离散背侧膜的膜力或一或多个平面内位移中的至少一者；及经由前馈回路或反馈回路中的至少一者将所述膜力或所述一或多个平面内位移中的至少一者提供到至少一个过程工具以改进一或多个制作过程的性能。

公开(公告)号：CN112840442A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201980065105.6

申请日：2019-10-18

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： D·米勒 ,  P·迪贺 ,  申筱蒙 ,  J·斋藤

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/78

Abstract: 一种使用可移除不透明涂层以在透明薄膜的上表面进行准确光学形貌测量的方法包含：将高度反射涂层沉积到晶片的上表面上；测量所述高度反射涂层上的形貌；及从所述晶片移除所述高度反射涂层。所述高度反射涂层包含有机材料。所述高度反射涂层包括介于1与2之间的折射率值。所述高度反射涂层包括大于635纳米的波长的复合波长。所述高度反射涂层反射至少20％的入射光。所述高度反射涂层在被沉积时以40×40微米的分辨率维持底层图案形貌。所述高度反射涂层未引起对所述晶片的破坏性应力。

公开(公告)号：CN112041975A

公开(公告)日：2020-12-04

申请号：CN201880092339.5

申请日：2018-12-20

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： P·悟卡达拉 ,  M·D·史密斯 ,  A·莱维 ,  P·迪贺 ,  D·米勒

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/033

Abstract: 本发明揭示一种控制器，其经配置以：在至少一个离散背侧膜沉积过程之前对半导体晶片执行至少第一表征过程；在所述至少一个离散背侧膜沉积过程之后执行至少额外表征过程；基于至少所述第一表征过程及至少所述额外表征过程确定经由所述至少一个离散背侧膜沉积过程沉积于所述半导体晶片上的至少一个离散背侧膜的膜力或一或多个平面内位移中的至少一者；及经由前馈回路或反馈回路中的至少一者将所述膜力或所述一或多个平面内位移中的至少一者提供到至少一个过程工具以改进一或多个制作过程的性能。

公开(公告)号：CN111971549B

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN201980025563.7

申请日：2019-04-12

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： P·迪贺 ,  D·米勒 ,  陈东 ,  陈登鹏 ,  S·察梅克 ,  D·卡瓦德杰夫 ,  A·比特纳

IPC: G01N21/47 ,  G01N21/41

Abstract: 本发明揭示一种用于分析样本的系统，其包含：照明源，其中多个传输光纤经光学耦合到所述照明源；及检测器，其中多个接收光纤经光学耦合到所述检测器。所述系统进一步包含经耦合到所述多个传输光纤的相应者及所述多个接收光纤的相应者的多个探针。所述多个探针经配置以照明所述样本的表面的相应部分，且经配置以接收从所述样本的所述表面的所述相应部分反射、折射或辐射的照明。所述系统可进一步包含经配置以将所述多个传输光纤的相应者光学耦合到所述照明源及/或经配置以将所述多个接收光纤的相应者光学耦合到所述检测器的一或多个开关及/或分离器。

公开(公告)号：CN111971549A

公开(公告)日：2020-11-20

申请号：CN201980025563.7

申请日：2019-04-12

Applicant: 科磊股份有限公司

Inventor： P·迪贺 ,  D·米勒 ,  陈东 ,  陈登鹏 ,  S·察梅克 ,  D·卡瓦德杰夫 ,  A·比特纳

IPC: G01N21/47 ,  G01N21/41

Abstract: 本发明揭示一种用于分析样本的系统，其包含：照明源，其中多个传输光纤经光学耦合到所述照明源；及检测器，其中多个接收光纤经光学耦合到所述检测器。所述系统进一步包含经耦合到所述多个传输光纤的相应者及所述多个接收光纤的相应者的多个探针。所述多个探针经配置以照明所述样本的表面的相应部分，且经配置以接收从所述样本的所述表面的所述相应部分反射、折射或辐射的照明。所述系统可进一步包含经配置以将所述多个传输光纤的相应者光学耦合到所述照明源及/或经配置以将所述多个接收光纤的相应者光学耦合到所述检测器的一或多个开关及/或分离器。