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公开(公告)号：CN118644473A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202410943696.5
申请日：2018-12-14
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G06T7/00
Abstract: 本申请实施例涉及使用机器学习检验光罩的系统和方法。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。该深度学习过程包含基于最小化该远场光罩图像与通过使由该设计数据库制造的训练光罩成像获取的多个对应训练光罩图像之间的差异来训练深度学习模型。经由裸片到数据库过程来检验由该设计数据库制造的测试光罩的测试区域的缺陷，该裸片到数据库过程包含比较来自参考远场光罩图像的多个参考图像与由该检验系统从该测试光罩获取的多个测试图像。基于由该经训练的深度学习模型产生的参考近场光罩图像来模拟该参考远场光罩图像。
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公开(公告)号：CN112955732A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201980072399.5
申请日：2019-11-01
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于特性化样品的系统。在一个实施例中，所述系统包含控制器，所述控制器经配置以：接收所述样品的一或多个缺陷的训练图像；基于所述训练图像生成机器学习分类器；接收样品的一或多个缺陷的产品图像；运用所述机器学习分类器确定一或多个缺陷的一或多个缺陷类型分类；运用一或多个平滑滤波器过滤所述产品图像；执行二值化过程以生成二值化产品图像；对所述二值化产品图像执行形态图像处理操作；基于所述二值化产品图像确定所述一或多个缺陷的一或多个算法估计的缺陷大小；及基于所述一或多个算法估计的缺陷大小及所述一或多个缺陷类型分类确定所述一或多个缺陷的一或多个缺陷大小的一或多个改进估计值。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111480179A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201880081260.2
申请日：2018-12-14
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G06T7/00
Abstract: 本发明揭示用于检验光刻光罩的方法及设备。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。所述深度学习过程包含基于最小化所述远场光罩图像与通过使由所述设计数据库制造的训练光罩成像获取的多个对应训练光罩图像之间的差异来训练深度学习模型，且此类训练光罩图像根据图案多样性来选择且是无缺陷的。经由裸片到数据库过程来检验由所述设计数据库制造的测试光罩的测试区域的缺陷，所述裸片到数据库过程包含比较来自参考远场光罩图像的多个参考图像与由所述检验系统从所述测试光罩获取的多个测试图像。基于由所述经训练的深度学习模型产生的参考近场光罩图像来模拟所述参考远场光罩图像。
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公开(公告)号：CN112955732B
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN201980072399.5
申请日：2019-11-01
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于特性化样品的系统。在一个实施例中，所述系统包含控制器，所述控制器经配置以：接收所述样品的一或多个缺陷的训练图像；基于所述训练图像生成机器学习分类器；接收样品的一或多个缺陷的产品图像；运用所述机器学习分类器确定一或多个缺陷的一或多个缺陷类型分类；运用一或多个平滑滤波器过滤所述产品图像；执行二值化过程以生成二值化产品图像；对所述二值化产品图像执行形态图像处理操作；基于所述二值化产品图像确定所述一或多个缺陷的一或多个算法估计的缺陷大小；及基于所述一或多个算法估计的缺陷大小及所述一或多个缺陷类型分类确定所述一或多个缺陷的一或多个缺陷大小的一或多个改进估计值。
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公开(公告)号：CN111480179B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201880081260.2
申请日：2018-12-14
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G06T7/00
Abstract: 本发明揭示用于检验光刻光罩的方法及设备。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。所述深度学习过程包含基于最小化所述远场光罩图像与通过使由所述设计数据库制造的训练光罩成像获取的多个对应训练光罩图像之间的差异来训练深度学习模型，且此类训练光罩图像根据图案多样性来选择且是无缺陷的。经由裸片到数据库过程来检验由所述设计数据库制造的测试光罩的测试区域的缺陷，所述裸片到数据库过程包含比较来自参考远场光罩图像的多个参考图像与由所述检验系统从所述测试光罩获取的多个测试图像。基于由所述经训练的深度学习模型产生的参考近场光罩图像来模拟所述参考远场光罩图像。
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公开(公告)号：CN110603626A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201880029967.9
申请日：2018-05-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 系统及方法增加晶片的光学检验的信噪比以获得更高检验灵敏度。计算参考图像可最小化测试图像及所述计算参考图像的差异的范数。确定所述测试图像与计算参考图像之间的差异图像。所述计算参考图像包含第二组图像的线性组合。
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公开(公告)号：CN110603626B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201880029967.9
申请日：2018-05-23
Applicant: 科磊股份有限公司
Abstract: 系统及方法增加晶片的光学检验的信噪比以获得更高检验灵敏度。计算参考图像可最小化测试图像及所述计算参考图像的差异的范数。确定所述测试图像与计算参考图像之间的差异图像。所述计算参考图像包含第二组图像的线性组合。
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