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公开(公告)号:CN112817213B
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202110106957.4
申请日:2021-01-27
IPC: G03F7/20 , G09F9/33 , G09F9/302 , H01L21/67 , H01L25/00 , H01L25/16 , H01L33/48 , H01L33/50 , H01L33/56
Abstract: 本发明提出一种基于RGBW的Micro‑LED制备系统,包括显影机、刻蚀机、光源模组,还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板;光源模组包括四组光源,每组光源对应显示像素内的一个子像素结构,掩膜版包括多个透光区,每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心;当对光刻胶曝光时,四组光源同时透过掩膜版透光区对子像素结构处的光刻胶进行曝光,各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定;显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型;本发明可解决由于对量子点的封胶厚度不同导致子像素发光亮度不均衡的问题。
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公开(公告)号:CN112817213A
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:CN202110106957.4
申请日:2021-01-27
IPC: G03F7/20 , G09F9/33 , G09F9/302 , H01L21/67 , H01L25/00 , H01L25/16 , H01L33/48 , H01L33/50 , H01L33/56
Abstract: 本发明提出一种基于RGBW的Micro‑LED制备系统,包括显影机、刻蚀机、光源模组,还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板;光源模组包括四组光源,每组光源对应显示像素内的一个子像素结构,掩膜版包括多个透光区,每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心;当对光刻胶曝光时,四组光源同时透过掩膜版透光区对子像素结构处的光刻胶进行曝光,各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定;显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型;本发明可解决由于对量子点的封胶厚度不同导致子像素发光亮度不均衡的问题。
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公开(公告)号:CN115834907A
公开(公告)日:2023-03-21
申请号:CN202211479889.7
申请日:2022-11-23
Applicant: 福州大学
IPC: H04N19/593 , H04N19/182 , H04N19/90 , H04N19/436
Abstract: 本发明提供了一种低延时超高清视频编码方法、解码方法及其装置,包括以下步骤:步骤S10:获取待压缩视频流数据;步骤S20:根据当前待处理像素建立预测模板,计算得到带预测像素的预测值;步骤S30:根据所述待预测像素的预测值和原始值,得到残差系数;步骤S40:根据残差系数和带预测像素的原始值,并根据上文情况进行数据压缩处理;步骤S50:将第一压缩编码数据流进行数据地址重映射,产生第二压缩编码数据流;步骤S60:将所述第二压缩编码数据流,进行字典压缩编码,产生第三压缩编码数据流;应用本技术方案可实现提高对超高清视频流数据编码解码效率及低延时性。
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