一种μLED像素单元结构及显示器件

    公开(公告)号:CN111798764B

    公开(公告)日:2022-07-05

    申请号:CN202010535535.4

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 本发明涉及一种μLED像素单元结构及显示器件,μLED显示器件在驱动背板上阵列设置有k个μLED像素单元,每个μLED像素单元包含ni个μLED芯片,以形成至少mi个μLED发光体;μLED芯片电极的设置方式包括两个电极分别设置于μLED芯片的上下两侧以及两个电极设置于μLED芯片的同一侧,μLED芯片电极和驱动背板电极均设置有互连区域和互连失效后用于修复连接的备用区域,μLED芯片电极与驱动背板电极采用Au‑In键合、非Au‑In互连或Au‑In键合和非Au‑In互连复合的方式互连。本发明可以有效降低μLED显示器件的制作难度、制作周期和制作成本,并提高μLED显示器件的良品率。

    一种NLED像素设置及修复方法

    公开(公告)号:CN111724699B

    公开(公告)日:2021-07-06

    申请号:CN202010536411.8

    申请日:2020-06-12

    Abstract: 本发明涉及一种NLED像素设置及修复方法。每个发光像素单元包括n个NLED芯片,每个像素单元包括至少m个NLED发光体;所述NLED芯片电极和驱动背板电极均设置有互连区域和备用区域,通过Au‑In键合、非Au‑In互连或Au‑In键合和非Au‑In互连的复合方式将所述NLED芯片电极的互连区域与驱动背板像素电极的互连区域相连后,采用实时监测电极区域进行检测,在相应不良区域通过原位非Au‑In连接方式将NLED芯片电极备用区域连接到驱动背板电极的对应备用区域上以进行修复,不必去除键合和连接不可靠的NLED芯片。本发明有效地降低了LED器件的制作周期和制作成本,并且大大提高了LED显示器件的良品率。

    可实现光效提取和色彩转换微米级LED显示装置及制造方法

    公开(公告)号:CN108257949A

    公开(公告)日:2018-07-06

    申请号:CN201810066208.1

    申请日:2018-01-24

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种可实现光效提取和色彩转换微米级LED显示装置及制造方法。包括设置于衬底表面呈阵列排布的若干个LED芯片、设置于LED芯片表面且与LED芯片一一对应的微结构;微结构包括倒梯形储液槽,储液槽内周侧设置有反射层;呈阵列排布的微结构与LED芯片沿横向依次构成R单元、G单元以及B单元,其中,R单元/G单元的储液槽至下而上依次设置有红/绿色量子点层以及分布式布拉格反射层,B单元储液槽至下而上依次设置有透明层以及分布式布拉格反射层;LED芯片能够发出蓝光,LED芯片发出的蓝光经红/绿色量子点层而转换为红光/绿光。本发明能够增加垂直方向光的出射;同时,能够增强出射光的强度,有效地提高微米级LED显示的色彩转换和出光效率。

    一种OLED器件结构及制备方法

    公开(公告)号:CN107863446A

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201711108575.5

    申请日:2017-11-11

    Applicant: 福州大学

    CPC classification number: H01L51/50 H01L51/5237 H01L51/5256 H01L51/56

    Abstract: 本发明涉及一种OLED器件结构及制备方法,该OLED器件结构包括一基板;一第一水氧阻隔层,设置于基板上方,由具有高低折射率的两种薄膜的堆叠,一方面用于增加OLED发射光的出光效率,另一方面作为封装层,用于阻隔水汽和氧气;一OLED单元,设于第一水氧阻隔层上方;一第二水氧阻隔层,设于OLED单元上方,由具有高低折射率的两种薄膜的堆叠,一方面用于反射OLED光,另一方面作为封装层,用于阻隔水汽和氧气。与现有技术相比,本发明虽然结构复杂,但操作简单、材料易购买、效果显著,能有效提高OLED器件的寿命和光提取效率。

    一种μLED巨量转移方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111128813B

    公开(公告)日:2022-10-28

    申请号:CN202010063816.4

    申请日:2020-01-20

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种µLED巨量转移方法,首先利用光学胶将蓝膜上待转移的µLED芯片转移到临时转移基板上,然后采用超高分辨率发光点阵选择照射区域,即筛选欲转移的µLED芯片位置,有被光照的µLED芯片将与临时转移基板脱离,转移到驱动背板,没有被光照过的µLED芯片将继续留在临时转移基板,等待下一次的转移,从而实现批量的、有选择性的µLED芯片转移。

    一种用于光提取的随机纳米图案制备方法

    公开(公告)号:CN112436096B

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202011138393.4

    申请日:2020-10-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于光提取的随机纳米图案制备方法。所述随机皱褶图案的制备主要通过软印刷复制方法实现,采用原子层沉积方法生长多晶态氧化物薄膜,并以结晶颗粒为掩膜进行表面刻蚀,形成高低起伏的表面,然后配制软印刷复制材料PDMS对其表面进行压印,形成随机褶皱图案。通过改变生长条件调节结晶颗粒的分布及尺寸,从而调控随机皱褶团案的高低起伏情况,形成不同的微结构并应用于光电器件的光效提升。本发明结构简单、制作方法工艺简单、操作简便、成本低,且能大大提高光电器件的外量子点效率,效果显著。

    一种用于光提取的随机纳米图案制备方法

    公开(公告)号:CN112436096A

    公开(公告)日:2021-03-02

    申请号:CN202011138393.4

    申请日:2020-10-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于光提取的随机纳米图案制备方法。所述随机皱褶图案的制备主要通过软印刷复制方法实现,采用原子层沉积方法生长多晶态氧化物薄膜,并以结晶颗粒为掩膜进行表面刻蚀,形成高低起伏的表面,然后配制软印刷复制材料PDMS对其表面进行压印,形成随机褶皱图案。通过改变生长条件调节结晶颗粒的分布及尺寸,从而调控随机皱褶团案的高低起伏情况,形成不同的微结构并应用于光电器件的光效提升。本发明结构简单、制作方法工艺简单、操作简便、成本低,且能大大提高光电器件的外量子点效率,效果显著。

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