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公开(公告)号：CN101652676B
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN200880011346.4
申请日：2008-04-08
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·M·斯诺尔仁 , H·施泰因豪泽 , N·J·努尔德霍尔克 , M·西蒙
IPC: G01T1/20
CPC classification number: G01T1/2018 , G01T1/20
Abstract: 根据本发明的一个实施例，用于探测初级辐射(6)的辐射探测器设备(10)包括：闪烁体(12)，其响应于入射的初级辐射(6)产生经转换的初级辐射；以及光电探测器(14)，其用于探测所述经转换的初级辐射。所述辐射探测器设备(10)还包括次级辐射源(20)，其用于以次级辐射(22)照射所述闪烁体(12)，所述次级辐射(22)具有的波长不同于所述第一辐射(6)的波长并能够为初级辐射产生闪烁体(12)的空间上更均匀的响应。本发明的一个实施例中，辐射探测器设备(10)是X射线成像设备的X射线探测器，其中初级辐射是X射线辐射，并且次级辐射具有350nm和450nm之间的波长。根据一个实施例，具有次级辐射(例如，UV辐射)的照射产生X射线探测器(10)的均匀增益分布。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105717532B
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201610081264.3
申请日：2008-04-09
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·M·斯诺尔仁 , H·施泰因豪泽 , N·J·努尔德霍尔克 , M·西蒙
CPC classification number: G01T1/2018 , G01T1/2928
Abstract: 一种提供与针对初级辐射的闪烁体的空间增益分布有关的信息的方法，其不需要利用初级辐射来照射闪烁体。所述方法包括利用次级辐射照射闪烁体，以为所述次级辐射生成闪烁体的空间次级增益分布的图像。所述空间次级增益分布图像与针对初极辐射的空间初级增益分布的图像相对应。在本发明的一个实施例中，即，在初级辐射是X射线辐射的X射线成像设备中，本发明提供X射线探测器的精确校准而不需要利用X射线辐射来照射X射线探测器。而是，利用UV辐射作为次级辐射的照射提供了可用于校准的所期望的空间次级增益分布图像。
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公开(公告)号：CN101652677A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200880011645.8
申请日：2008-04-09
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·M·斯诺尔仁 , H·施泰因豪泽 , N·J·努尔德霍尔克 , M·西蒙
IPC: G01T1/20
CPC classification number: G01T1/2018 , G01T1/2928
Abstract: 一种提供与针对初级辐射的闪烁体的空间增益分布有关的信息的方法，其不需要利用初级辐射来照射闪烁体。所述方法包括利用次级辐射照射闪烁体，以为所述次级辐射生成闪烁体的空间次级增益分布的图像。所述空间次级增益分布图像与针对初极辐射的空间初级增益分布的图像相对应。在本发明的一个实施例中，即，在初级辐射是X射线辐射的X射线成像设备中，本发明提供X射线探测器的精确校准而不需要利用X射线辐射来照射X射线探测器。而是，利用UV辐射作为次级辐射的照射提供了可用于校准的所期望的空间次级增益分布图像。
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公开(公告)号：CN101652676A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：CN200880011346.4
申请日：2008-04-08
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·M·斯诺尔仁 , H·施泰因豪泽 , N·J·努尔德霍尔克 , M·西蒙
IPC: G01T1/20
CPC classification number: G01T1/2018 , G01T1/20
Abstract: 根据本发明的一个实施例，用于探测初级辐射(6)的辐射探测器设备(10)包括：闪烁体(12)，其响应于入射的初级辐射(6)产生经转换的初级辐射；以及光电探测器(14)，其用于探测所述经转换的初级辐射。所述辐射探测器设备(10)还包括次级辐射源(20)，其用于以次级辐射(22)照射所述闪烁体(12)，所述次级辐射(22)具有的波长不同于所述第一辐射(6)的波长并能够为初级辐射产生闪烁体(12)的空间上更均匀的响应。本发明的一个实施例中，辐射探测器设备(10)是X射线成像设备的X射线探测器，其中初级辐射是X射线辐射，并且次级辐射具有350nm和450nm之间的波长。根据一个实施例，具有次级辐射(例如，UV辐射)的照射产生X射线探测器(10)的均匀增益分布。
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公开(公告)号：CN101500487A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200780029372.5
申请日：2007-07-23
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·M·斯诺尔仁
Abstract: 说明了一种方法，用于测量X射线系统(100)中的清晰度。所述测量基于公知的边缘响应。将代表投影装置的边缘装置(120)置于波束整形装置(470)内。由于较高的几何放大系数，边缘响应函数(241a)还有脉冲响应函数(246a)和调制传递函数(251a)会主要取决于焦斑(112)的大小，而不是用于接收横向穿过边缘装置(120)的X放射线(117)的探测器(130)的预采样扩展函数。
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公开(公告)号：CN105717532A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201610081264.3
申请日：2008-04-09
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： R·M·斯诺尔仁 , H·施泰因豪泽 , N·J·努尔德霍尔克 , M·西蒙
CPC classification number: G01T1/2018 , G01T1/2928
Abstract: 一种提供与针对初级辐射的闪烁体的空间增益分布有关的信息的方法，其不需要利用初级辐射来照射闪烁体。所述方法包括利用次级辐射照射闪烁体，以为所述次级辐射生成闪烁体的空间次级增益分布的图像。所述空间次级增益分布图像与针对初极辐射的空间初级增益分布的图像相对应。在本发明的一个实施例中，即，在初级辐射是X射线辐射的X射线成像设备中，本发明提供X射线探测器的精确校准而不需要利用X射线辐射来照射X射线探测器。而是，利用UV辐射作为次级辐射的照射提供了可用于校准的所期望的空间次级增益分布图像。
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