公开(公告)号：CN101578681A

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200880001770.0

申请日：2008-01-08

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 克里斯多夫·R·汉特曼 ,  奎格·R·钱尼 ,  艾利克·R·科步 ,  约瑟·C·欧尔森 ,  奎斯·坎贝儿

IPC: H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/317 ,  F17C9/02

CPC classification number: H01J27/02 ,  C23C14/246 ,  C23C14/48 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006

Abstract: 揭示一种提供离子源供料材料的技术。在一特定实施例中，此技术可实现为供应离子源供料材料的容器。容器可包括内腔，其预填充有离子源供料材料。容器还可包括外主体，其配置为可载入对应的外罩内并可由外罩内移除，外罩经由喷嘴总成耦接至离子源室。容器还可包括出口，以密封预填充的离子源供料材料，出口还配置为与喷嘴总成啮合以在内腔与离子源室之间建立引流路径。容器可配置为抛弃式构件。