一种硅基凸面反射镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109052313B

    公开(公告)日:2020-11-20

    申请号:CN201810936487.2

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种硅基凸面反射镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,圆形硅片为阳极,球冠形薄铂片的凸面背离着硅片;先采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀,在硅片靠近球冠形薄铂片的一侧面上形成剖面为凸形的多孔硅膜;再采用化学腐蚀的方法腐蚀掉多孔硅膜,从而形成硅基凸面反射镜。通过本发明的方法,能获得硅基凸面反射镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    纳米多孔硅凸透镜组的制备方法

    公开(公告)号:CN111020686B

    公开(公告)日:2021-11-30

    申请号:CN201911277287.1

    申请日:2019-12-12

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅凸透镜组的制备方法,该方法是将常规双槽腐蚀制备多孔硅薄膜,先采用正、负方波恒流源对硅片左、右表面进行电化学腐蚀形成多孔硅薄膜后,再加大腐蚀电流,对硅片的中间部分进行电抛光,然后,将其浸入氢氧化钠溶液中,并以圆形的两片多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆形多孔硅薄膜,形成由多孔硅材料构成的凸透镜组。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅凸透镜组,能广泛应用于微机电系统,为微机光电系统领域作出了重大的贡献。

    一种硅基凹面反射镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109056051A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201810937158.X

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种硅基凹面反射镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,圆形硅片为阳极,球冠形薄铂片的凸面对着硅片;先采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀,在硅片靠近球冠形薄铂片的一侧面上形成剖面为凹形的多孔硅膜;再采用化学腐蚀的方法腐蚀掉多孔硅膜,从而形成硅基凹面反射镜。通过本发明的方法,能获得硅基凹面反射镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    一种纳米多孔硅双凹透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109056049A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201810935379.3

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅双凹透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的两个相对称的球冠做成电极,在两个球冠电极之间放置硅片,且两个球冠电极的两个凸面均面对硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光而使硅片前后两面形成同样的凹形球表面;再将两个对称的球冠电极换成平行的板式电极,对硅片两面进行电化学腐蚀而形成多孔双凹透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅双凹透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    一种硅基凸面反射镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109052313A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201810936487.2

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种硅基凸面反射镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的薄铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的一个球冠做成阴极,圆形硅片为阳极,球冠形薄铂片的凸面背离着硅片;先采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀,在硅片靠近球冠形薄铂片的一侧面上形成剖面为凸形的多孔硅膜;再采用化学腐蚀的方法腐蚀掉多孔硅膜,从而形成硅基凸面反射镜。通过本发明的方法,能获得硅基凸面反射镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    一种能稳定多孔硅膜物理微结构的方法

    公开(公告)号:CN104900488B

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201510208176.0

    申请日:2015-04-29

    Abstract: 一种能稳定多孔硅膜物理微结构的方法,属半导体材料技术领域。该方法是在多孔硅膜的形成过程中,就对多孔硅膜的内表面使用过氧化氢(H2O2)并使用短波射线照射同时进行氧化处理,边对体硅进行阳极腐蚀,边对其内表面进行氧化处理,使多孔硅膜内表面的硅悬空键与过氧化氢中的氧原子结合形成稳定的硅‑氧键,增强多孔硅膜表面的稳定性和均匀性、光滑度和机械强度,保证多孔硅膜的物理微结构的稳定和均匀。本发明可提高多孔硅膜的物理强度、物理微结构、光学特性的稳定性和均匀性;有利于制备物理微结构稳定的多孔硅膜;有利于探索使用多层多孔硅膜用于光子器件中,有可能制备出稳定性很强和均匀性很高的多层多孔硅膜器件即多孔硅微腔。

    一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109137059B

    公开(公告)日:2020-10-20

    申请号:CN201811186718.9

    申请日:2018-10-12

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法,该方法是将常规双槽腐蚀时使用两个圆形平板薄铂片作为电极,且在两个平行电极之间放置硅片,硅片轴线、两个圆形平板薄铂片轴线三者重合,硅片离左、右两个电极的距离相等,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀形成圆柱形多孔硅薄膜;然后将硅基圆柱形的多孔硅膜浸入氢氧化钠溶液中,并以圆柱形的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆柱形多孔硅,导致在多孔硅圆柱表面形成由多孔硅材料构成的单面凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单面凸透镜,能广泛应用于微机电系统,为微机光电系统领域作出了重大的贡献。

    一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109137059A

    公开(公告)日:2019-01-04

    申请号:CN201811186718.9

    申请日:2018-10-12

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法,该方法是将常规双槽腐蚀时使用两个圆形平板薄铂片作为电极,且在两个平行电极之间放置硅片,硅片轴线、两个圆形平板薄铂片轴线三者重合,硅片离左、右两个电极的距离相等,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀形成圆柱形多孔硅薄膜;然后将硅基圆柱形的多孔硅膜浸入氢氧化钠溶液中,并以圆柱形的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆柱形多孔硅,导致在多孔硅圆柱表面形成由多孔硅材料构成的单面凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单面凸透镜,能广泛应用于微机电系统,为微机光电系统领域作出了重大的贡献。

    一种纳米多孔硅双凸透镜的制备方法

    公开(公告)号:CN109056050A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201810936394.X

    申请日:2018-08-16

    Inventor: 龙永福

    Abstract: 本发明公开了一种纳米多孔硅双凸透镜的制备方法,该方法是将常规作为电极的铂片做成空心球体并把从空心球体上截得的两个相对称的球冠做成电极,在两个球冠电极之间放置硅片,且两个球冠电极的两个凸面均背离硅片,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;先采用恒流源对硅片进行电抛光而使硅片前后两面形成同样的凸形球表面;再将两个对称的球冠电极换成平行的板式电极,对硅片两面进行电化学腐蚀而形成多孔硅双凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅双凸透镜,能广泛应用于微光机电系统,为微光机电系统领域作出了重大的贡献。

    提高纳米多孔硅物理微结构和光学特性稳定性的新方法

    公开(公告)号:CN106517080A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610889553.6

    申请日:2016-10-12

    Inventor: 龙永福

    CPC classification number: B81C1/00539

    Abstract: 本发明公开了一种提高多孔硅物理微结构和光学特性稳定性的新方法,是在多孔硅膜制备完成后,就立即对多孔硅材料的内表面使用过氧乙酸并加方波信号源进行氧化处理,使多孔硅内表面的硅悬空键和硅-氢键与过氧乙酸中的氧原子结合或置换形成稳定的硅-氧键膜。本发明可提高多孔硅薄膜的物理强度、物理微结构和光学特性的稳定性;有利于制备物理微结构和光学特性稳定的多孔硅厚膜;有利于探索使用多孔硅多层膜用于光子器件中,有可能制备出稳定性较强和均匀性较高的多孔硅多层器件--多孔硅微腔。

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