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公开(公告)号：CN1170209C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN01144580.7
申请日：2001-12-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源属于扫描光学头技术领域，其特征在于，它含有：在同一线阵长度内依次排列着的下列元件：n个出射光强均匀的半导体激光器，n个分别会聚该激光器出射光的会聚透镜，n束分别接收上述透镜出射光的每束共有m根光纤的光导纤维，m个由分别来自各个光纤束的n根光纤排列成直线的线阵光纤头和每个线阵光纤头对应的成像透镜。m和n可以相等，也可以不相等。所述线阵光纤头包括：光纤阵列层，覆盖在线阵光纤头上用掩膜制成的光强均匀层，对应光纤处呈严格正方形且对所用波长的激光有高透射率的相位孔径层。与原来提出的线阵光源概念相比，本装置具有更高的照明均匀性、更严格的单个微光源形状和更小的单个微光源尺寸。
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公开(公告)号：CN1141733C
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN01120598.9
申请日：2001-07-26
Applicant: 清华大学
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , B81C5/00
Abstract: 本发明属于微细工程制造领域，涉及阵列式光学探针扫描光刻制作集成电路的方法。该方法由m×n个光探针单元构成光学探针阵列，将光学探针阵列中任意两个纵向或横向间隔最大的光探针单元用作精确定位的光探针单元单独在硅片上扫描，制作记录硅片信息的信号，用于套刻时硅片的对准与校正；将光刻过的硅片进行扩散，掺杂工艺，完成对感光图形的固定，洗掉原来光刻胶，重新在硅片上涂新的光刻胶；本方法达到的集成电路的最小线宽可小于0.1μm，同时具有速度快，效率高的特点，并大大简化了集成电路的制作工艺，为超大规模集成电路的制作提供了一种新的有效的途径。
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公开(公告)号：CN1374563A
公开(公告)日：2002-10-16
申请号：CN02117420.2
申请日：2002-04-19
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构属于集成电路的微细工程制造领域,其特征在于,它含有:微动转台,与该转台同轴连接的转台底座,固定在该底座上的转台推动架,与该转台相连且X、Y向各贴有平面镜的X向往复运动小工作台,以导轨气垫支撑该X向小工作台的X向空气静压导轨,与该X向导轨相连的Y向运动工作台,以导轨气垫支撑Y向运动工作台的Y向空气静压导轨,固定在该Y向导轨上的Y向运动工作台微动机构,经支撑导轨带动该Y向空气静压导轨运动的滚珠丝杠,以及与滚珠丝杠连接的弹性防振工作台。上述转台推动架和Y向工作台微动机构都是用压电体驱动的,X、Y向工作台都是丁字型。它具有系统精度高,运动速度快,工作平稳,使用寿命长,维护容易等优点,既可保证扫描精度又提高了光刻效率。
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公开(公告)号：CN1356595A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01144580.7
申请日：2001-12-21
Applicant: 清华大学
Abstract: 阵列式集成电路光刻扫描装置用的线阵光源属于扫描光学头技术领域,其特征在于,它含有:在同一线阵长度内依次排列着的下列元件:n个出射光强均匀的半导体激光器,n个分别会聚该激光器出射光的会聚透镜,n束分别接收上述透镜出射光的每束共有m根光纤的光导纤维,m个由分别来自各个光纤束的n根光纤排列成直线的线阵光纤头和每个线阵光纤头对应的成像透镜。m和n可以相等,也可以不相等。所述线阵光纤头包括:光纤阵列层,覆盖在线阵光纤头上用掩膜制成的光强均匀层,对应光纤处呈严格正方形且对所用波长的激光有高透射率的相位孔径层。与原来提出的线阵光源概念相比,本装置具有更高的照明均匀性、更严格的单个微光源形状和更小的单个微光源尺寸。
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公开(公告)号：CN1191580C
公开(公告)日：2005-03-02
申请号：CN03119279.3
申请日：2003-03-07
Applicant: 清华大学
IPC: G11B7/26
Abstract: 灰度记录方式只读光盘的复制方法属于高密度数字光存储领域，其特征在于：先把对不同波长的光反应不同的感光材料均匀涂在压制好的盘基上，以预先制造好的母盘为掩膜，用1∶1的曝光法进行曝光；然后，把曝光后的盘片上的感光层进行固定，成为信息记录层；最后分别把反射层和保护层旋涂在信息记录层上，完成灰度记录方式只读光盘的复制。所述的1∶1曝光法可以是反射式的，也可以是接近式的。它解决了灰度记录技术中的只读光盘复制问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1182439C
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：CN02104178.4
申请日：2002-03-15
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种阵列式集成电路光刻系统的版图编码方法，属于阵列式集成电路光刻系统中线阵光源扫描所需版图的编码技术领域，其特征在于：对于一个大小为m×n个象素的二色(黑白)版图，当扫描装置使用的是p×1的线阵光源时，采用按扫描宽度逐组逐列编码的方法：把所有数据按行编号均匀分为m/p组，每p行一组。每次对一组即p行数据进行逐列编码直至完毕。从而解决了采用线阵光源的阵列式集成电路光刻系统的版图编码问题。
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公开(公告)号：CN1169024C
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN02117420.2
申请日：2002-04-19
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 阵列式集成电路光刻系统中的精密工作台结构属于集成电路的微细工程制造领域，其特征在于，它含有：微动转台，与该转台同轴连接的转台底座，固定在该底座上的转台推动架，与该转台相连且X、Y向各贴有平面镜的X向往复运动小工作台，以导轨气垫支撑该X向小工作台的X向空气静压导轨，与该X向导轨相连的Y向运动工作台，以导轨气垫支撑Y向运动工作台的Y向空气静压导轨，固定在该Y向导轨上的Y向运动工作台微动机构，经支撑导轨带动该Y向空气静压导轨运动的滚珠丝杠，以及与滚珠丝杠连接的弹性防振工作台。上述转台推动架和Y向工作台微动机构都是用压电体驱动的，X、Y向工作台都是丁字型。它具有系统精度高，运动速度快，工作平稳，使用寿命长，维护容易等优点，既可保证扫描精度又提高了光刻效率。
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公开(公告)号：CN1517989A
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN03100602.7
申请日：2003-01-17
Applicant: 清华大学
Abstract: 灰度记录方式的只读光盘属于只读光盘存储领域，其特征在于，它是一种灰度分阶只读光盘，它含有依次层叠的：基片、用感光材料经光刻曝光、显影、定影程序后形成的记录层、反射层和保护层。它也可以是一种多波长多阶只读光盘，它还有依次层叠的：基片、用对不同波长敏感的多种混和光致变色材料经光刻曝光、显影、定影程序后形成的记录层、反射层和保护层。它避免了坑的形状对误码的影响，而且采用光刻方法记录数据，消除了原先压制过程中模具带来的影响。
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公开(公告)号：CN1141620C
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN01120600.4
申请日：2001-07-26
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明属于微细加工技术领域，包括由n个短波长微光源组成的线阵光源和对该光源实现小视场和近场技术的微型成像系统，所说的线阵光源由n个相邻微光源排成直线得到的，每个微光源的开关可进行独立控制。本发明提高了系统光刻分辨率，可实现集成电路最小尺寸的图形光刻制作。并实现了宽度扫描，扫描线宽可以在扫描光刻过程中根据实际需要随时调整，大大提高了加工速度。
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公开(公告)号：CN1139845C
公开(公告)日：2004-02-25
申请号：CN01123501.2
申请日：2001-07-26
Applicant: 清华大学
IPC: G03F7/00 , H01L21/027 , B81C5/00
Abstract: 本发明涉及一种阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法，首先根据电路图形确定关键点，将电路图形的区别特征进行编码，并刻写在硅片上，设置一对校准图形，使校准图形位于电路图形处，校准图形由校准子图形组成。根据图形关键点，在硅片上刻写校准子图形，当套刻进行到图形关键点时，读取校准子图形坐标，并将该坐标与记录的校准子图形的坐标进行比较。本发明的装置中，工作台放置在基座上，由精密伺服电机驱动，待加工硅片通过吸盘固定于工作台上，校准光学头和光探针阵列位于硅片上方，一对校准光学头位于光探针阵列中间，光探针阵列呈矩形排列。采用本发明进行对准，可以一次对准所有电路图形，节省了对准时间，提高了对准效率。
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