一种反射式耐辐照相机优化设计方法

    公开(公告)号:CN118427998A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410528938.4

    申请日:2024-04-29

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本申请提供一种反射式耐辐照相机优化设计方法,属于辐照相机技术领域,包括:将辐射场等效为放射源;确定反射式耐辐照相机所需的目标剂量值;根据目标剂量值,设计相机屏蔽外壳,并将相机屏蔽外壳划分为多个单元,多个单元分别具有初始形状和初始尺寸;计算相机屏蔽外壳的各个单元分别去除后相机的耐辐照剂量值,并将反射式耐辐照相机去除各个单元后的耐辐照剂量值与初始耐辐照剂量值对比,得到对比信息;根据对比信息调整相机屏蔽外壳的各个单元的初始形状和初始尺寸,直至相机屏蔽外壳的指标满足需求。通过本申请提供的一种反射式耐辐照相机优化设计方法,可以保证一定耐辐照性能的前提下,实现相机的轻量化和成本的降低;同时,进一步将屏蔽外壳分层划分,通过优化分层后的各单元不同屏蔽材料的配置,在保证耐辐照剂量需求的前提下,进一步减轻相机质量。本申请还探索了屏蔽材料厚度与其屏蔽辐照效果的关系,证明了屏蔽材料优化配置的意义。

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