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公开(公告)号:CN107176596A
公开(公告)日:2017-09-19
申请号:CN201610143058.0
申请日:2016-03-11
Applicant: 深圳大学
IPC: C01B25/30 , B01J27/188 , C07C33/03 , C07C29/00
CPC classification number: C01B25/30 , B01J27/188 , C01P2006/10 , C07C29/00 , C07C33/03
Abstract: 一种WO3‑Li3PO4包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备WO3掺杂Li3PO4靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂,得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.1‑5at%)的WO3粉末掺杂,可制备出致密度超过95%,强度超过45MPa,维氏硬度大于295Mpa的掺杂Li3PO4靶材,这种掺杂Li3PO4靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。作为微电源方面,LiWPON薄膜具有热力学稳定性好、离子导电率高和电化学窗口宽等优点可用于制备电解质薄膜;化工上可做催化剂,用于制备烯丙醇;此外还用在气体敏感器中、特种激光玻璃、光盘、陶瓷材料等。
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公开(公告)号:CN107176831A
公开(公告)日:2017-09-19
申请号:CN201610143057.6
申请日:2016-03-11
Applicant: 深圳大学
IPC: C04B35/447 , C04B35/628 , C23C14/34 , C23C14/08
CPC classification number: C04B35/447 , C04B35/62818 , C04B2235/3203 , C04B2235/3256 , C04B2235/77 , C04B2235/96 , C23C14/0676 , C23C14/3414
Abstract: 一种MoO3‑Li3PO4包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备MoO3掺杂Li3PO4靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂,得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.1‑5at%)的MoO3粉末掺杂,可制备出致密度超过95%,强度超过50MPa,维氏硬度大于240Mpa的掺杂Li3PO4靶材,这种掺杂Li3PO4靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。作为微电源方面,LiMoPON薄膜具有热力学稳定性好、离子导电率高和电化学窗口宽等优点可用于制备电解质薄膜;化工上可做催化剂,用于制备烯丙醇;此外还用在气体敏感器中、特种激光玻璃、光盘、陶瓷材料等。
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公开(公告)号:CN108863342A
公开(公告)日:2018-11-23
申请号:CN201710341423.3
申请日:2017-05-11
Applicant: 深圳大学
IPC: C04B35/453 , C23C14/34 , H01B5/14 , H01B1/08
CPC classification number: C04B35/453 , C04B2235/3251 , C04B2235/77 , C04B2235/96 , C23C14/3414 , H01B1/08 , H01B5/14
Abstract: 一种高密度Nb‑ZnO材料的制备。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的Nb‑ZnO材料制备技术。把(0.005‑1at%)的Nb2O5与ZnO粉末经过充分混合、成型、烧结可制备出致密度超过99.8%,抗弯强度超过100MPa,电阻率小于2×10‑2Ω·cm的Nb‑ZnO材料。这种Nb‑ZnO材料,可制成溅射镀膜靶材,在显示、薄膜太阳能电池、low‑E玻璃等领域有极其广泛的应用。
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公开(公告)号:CN107793145A
公开(公告)日:2018-03-13
申请号:CN201610817752.6
申请日:2016-09-07
Applicant: 深圳大学
IPC: C04B35/453 , C04B35/626 , C04B35/628 , C04B35/622 , C23C14/08
CPC classification number: C04B35/453 , C04B35/622 , C04B35/626 , C04B35/6261 , C04B35/6267 , C04B35/62675 , C04B35/62818 , C04B2235/77 , C04B2235/96 , C23C14/08
Abstract: 一种TZO-MoO3包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备MoO3掺杂TZO靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂,得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.2-0.5at%)的MoO3粉末掺杂,可制备出致密度超过99.9%,强度超过120MPa,电阻率小于5.0×10-3Ω·cm的掺杂TZO靶材,这种掺杂TZO靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。TZO透明导电薄膜性能稳定、制备简单、成本低廉等优势,在光电学性能平板显示领域得到了极其广泛的应用,是新一代透明导电膜,最有可能替代昂贵的ITO,在薄膜太阳能电池和low-E玻璃等领域,正显示出巨大的应用前景和市场,是一种被广泛研究的功能材料。
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公开(公告)号:CN107793146A
公开(公告)日:2018-03-13
申请号:CN201610817783.1
申请日:2016-09-07
Applicant: 深圳大学
IPC: C04B35/453 , C04B35/628 , C04B35/622 , C23C14/34
CPC classification number: C04B35/453 , C04B35/622 , C04B35/62818 , C04B2235/3232 , C04B2235/3258 , C04B2235/77 , C04B2235/96 , C23C14/3407
Abstract: 一种TZO-WO3包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备WO3掺杂TZO靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂,得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.2-0.5at%)的WO3粉末掺杂,就可制备出致密度99%,强度大于118MPa,电阻率小于5×10-3Ω·cm的掺杂TZO靶材,这种掺杂TZO靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。TZO薄膜是一种被广泛研究的功能材料。TZO透明导电薄膜性能稳定、制备简单、成本低廉等优势,在光电学性能平板显示领域得到了极其广泛的应用,是新一代透明导电膜,最有可能替代昂贵的ITO,在薄膜太阳能电池和low-E·玻璃等领域,正显示出巨大的应用前景和市场。
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公开(公告)号:CN107176840A
公开(公告)日:2017-09-19
申请号:CN201610143056.1
申请日:2016-03-11
Applicant: 深圳大学
IPC: C04B35/628 , C04B35/453
CPC classification number: C04B35/62818 , C04B35/453 , C04B2235/3217 , C04B2235/3256 , C04B2235/77
Abstract: 一种AZO‑MoO3包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备MoO3掺杂AZO靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂,得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.01‑0.1at%)的MoO3粉末掺杂,可制备出致密度超过99%,强度超过100MPa,电阻率小于8×10‑4Ω·cm的掺杂AZO靶材,这种掺杂AZO靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。AZO透明导电薄膜性能稳定、制备简单、成本低廉等优势,在光电学性能平板显示领域得到了极其广泛的应用,是新一代透明导电膜,最有可能替代昂贵的ITO,在薄膜太阳能电池和low‑E玻璃等领域,正显示出巨大的应用前景和市场,是一种被广泛研究的功能材料。
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