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公开(公告)号：CN119623291A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202411769322.2
申请日：2024-12-04
Applicant: 浙江工业大学
IPC: G06F30/27 , G06N3/0455 , G06N3/09 , G06N3/084 , G06F18/213 , G06F18/214 , G06F18/25 , G06F18/27
Abstract: 本发明提供了一种基于多源数据融合的微球研抛过程中压力参数优化方法，具体包括以下步骤：步骤一，先通过多个传感器采集微球研磨抛光过程中的振动信号以及非振动信号；再对采集到的振动信号进行处理，提取出主要特征；然后，将提取出的振动信号特征与非振动信号进行整合，确保数据维度一致；步骤二，将整合后的数据输入到DAE‑MMR预测模型中，预测出当前加工状态下的最优压力值；所述预测模型基于自动编码器和BP神经网络构建，并通过多个传感器采集到的多源数据的历史数据训练得到；步骤三，将预测的压力值输入控制系统中，由控制系统对研磨抛光过程中的压力进行调节，实现对压力参数的精准优化；从而可以提高微球的加工精度和加工效率。
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公开(公告)号：CN117644439A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202410013057.9
申请日：2024-01-04
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了半球谐振子约束流场力流变抛光‑调平装备及方法；所述抛光‑调平装备包括直线移动平台、清洗干燥装置、力流变约束模块、在位检测装置和液压动力装置；直线移动平台用于调整半球谐振子的位置，且直线移动平台上设有用于装夹半球谐振子的工件主轴；清洗干燥装置用于对抛光后的半球谐振子进行清洗和干燥；力流变约束模块用于对半球谐振子进行抛光，其内部设有两个分别与A磨料缸和B磨料缸相连接的约束流道；在位检测装置用于检测出半球谐振子的不平衡质量和不平衡位置，便于对半球谐振子进行调平修正；液压动力装置包括与液压站相连接的A液压缸和B液压缸；A液压缸和B液压缸分别与A磨料缸和B磨料缸的活塞相连接。
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公开(公告)号：CN118442935A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410152449.3
申请日：2024-02-03
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了石英玻璃刻蚀深度实时检测装置及检测方法；所述实时检测装置包括刻蚀液盛放容器、激光发射装置、光电检测器和计算机控制系统，其基于光反射原理，并根据数学几何关系推导，可以对待测工件的刻蚀深度进行实时检测，检测准确便捷。检测时，将待检测的工件浸入刻蚀液盛放容器内的刻蚀液中，并通过工件夹持机构夹紧固定；刻蚀液对工件进行刻蚀，激光发射装置发射激光，激光在工件表面反射后最终会射到光电检测器上；数据采集卡采集激光在光电检测器上的位置信息并发送至计算机控制系统，由计算机控制系统通过数学关系推导，将对应的工件刻蚀深度计算出来；在整个刻蚀过程中，通过不断调整激光的发射角度，即可获得工件的实时刻蚀深度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117325075A
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202311365242.6
申请日：2023-10-20
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B37/025 , B24B37/34
Abstract: 本发明公开了微小球四轴研磨上下料装置，包括安装箱；安装箱包括箱体和箱盖；箱体中设有升降装置；升降装置的顶部连接有升降杆；升降杆为空心结构，升降杆的侧面设有空心凸台；空心凸台上连接有导气软管，导气软管的另一端伸出所述箱体能够与外部抽气设备相连接；箱体的顶部设有通孔，升降杆能够在升降装置的驱动下经过通孔伸出箱体；升降杆的上端直径D小于待加工球坯的直径；升降装置能够通过其控制线与外部电脑相连接。本发明微小球四轴研磨上下料装置通过特定的结构，与四轴球体研磨机配套使用，可实现微小球体上下料操作，使得四轴球体研磨机能够对0.9‑2.5mm直径的微小球体进行加工研磨。此外，本发明还提供了微小球四轴研磨上下料方法。
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公开(公告)号：CN119952603A
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN202510179843.0
申请日：2025-02-19
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B37/025 , B24B37/11 , B24B37/34 , B24B1/00
Abstract: 本发明公开了微球四轴研磨装置及其研磨方法，本发明的研磨装置包括床身组件；所述床身组件上设有四轴研抛组件和上下料装置；所述四轴研抛组件包括四个在三维空间中呈相互对称布置的研抛主轴模块，四个研抛主轴模块的轴线汇交于一点；所述上下料装置能够在研磨前将微球工件输送至加工位置，研磨后取下微球工件。本发明的微球四轴研磨装置采用特定的结构设计，利用电主轴驱动研具，且电主轴和研具通过弹性随动装置连接，工作时，研具可以发生微量偏转，从而与微球工件的球面始终保持贴合，有效提高加工精度。本发明还提供了微球四轴研磨方法，本发明的方法通过控制研具按照设定的时序切换旋转方向，对微球工件进行研磨，有利于提高研磨的均匀性。
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公开(公告)号：CN117681061A
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202311580489.X
申请日：2023-11-24
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种基于流变原理的半球谐振子展成抛光方法，主要包括以下步骤：先将半球谐振子装夹在工件主轴上，将抛光工具装夹在工具主轴上；再调整工件主轴和工具主轴的位置，使工件主轴的轴线与工具主轴的轴线重合，且抛光工具的球心与半球谐振子的球心重合；接着，调整抛光工具轴线与半球谐振子轴线之间的夹角，使抛光工具与半球谐振子形成抛光组件；然后将抛光组件浸入抛光液中，并启动工件主轴和工具主轴，带动半球谐振子和抛光工具转动；抛光液在抛光工具与半球谐振子内、外球面之间的间隙形成两个展成抛光流场，从而利用抛光液的流变特性实现对半球谐振子的内外球面以及根部过渡圆弧的同步高效抛光，抛光效率高、精度高、表面质量好。
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公开(公告)号：CN117511503A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311487125.7
申请日：2023-11-09
Applicant: 浙江工业大学
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , B24B1/00 , B24B31/116 , B24B31/14
Abstract: 本发明提出了核壳结构的柔性复合磨料及其在力流变抛光中的应用。本发明的柔性复合磨料由弹性核体和包覆于弹性核体表面的壳层组成，弹性核体中不具有磨粒，磨粒只存在于壳层中，有效降低制造成本，且特定的核壳结构，弹性核体中具有磁粉，使得复合磨粒具有微磁性，在抛光后可以利用强磁强进行回收，实现重复利用，降低使用成本；此外，特定的制备工艺决定其可以在壳层出现损坏后，可以进行增材修复，进一步降低使用成本。对应的，本发明还提供了使用柔性复合磨料制备的力流变抛光液，以及采用该力流变抛光液实现的力流变抛光方法。
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公开(公告)号：CN116593331A
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310544401.2
申请日：2023-05-12
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种用于研究涌潮荷载作用下桩式丁坝服役性能试验研究的实验装置，包括模型箱，内部四个侧壁及底部均布置有用于减少模型箱边界效应的聚丙烯泡沫板；试验模型，位于模型箱上方且试验模型的下端埋设在土料的中间部位；试验模型通过夹持组件架设在模型箱的上方；夹持组件包括横向设置的横向支架以及与横向支架两端固定连接的竖直固定支座，横向支架上固设有滑轨，试验模型上设置有滑块，滑轨与滑块相互配合用以模拟桩式丁坝的滑动支座约束条件；横向支架上设置有力锤加载装置，通过力锤加载装置敲击试验模型，试验模型产生相应的动力响应，并由动态数据采集仪收集产生的内力。本发明能有效地研究涌潮荷载作用下桩式丁坝服役性能。
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