高效超精密力流变抛光方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113787383A

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202111098365.9

    申请日:2021-09-18

    Abstract: 高效超精密力流变抛光方法,抛光时,工件与力流变抛光液做相对运动;所述力流变抛光液在剪切力作用下具有非线性流变特性,成分包括分散介质、固相粒子、磨粒、吸附相、热稳定相和缓释相;所述吸附相吸附磨粒形成“磨粒球”;抛光过程中:所述缓释相均匀释放化学试剂维持抛光液中化学试剂浓度的稳定,化学试剂与工件反应在工件表面生成反应膜;在工件与抛光液相对运动产生的剪切力作用下,抛光液与工件接触界面形成贴合工件面形的流变层,流变层中的固相粒子发生团聚,并将“磨粒球”包裹后形成粒子团,粒子团与工件相对运动实现所述反应膜的去除;所述热稳定相吸收抛光过程产生的热量,维持抛光液温度和黏度的稳定。

    高效超精密力流变抛光液
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113861847A

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN202111097293.6

    申请日:2021-09-18

    Abstract: 本发明提供了高效超精密力流变抛光液,所述力流变抛光液的成分包括分散介质、固相粒子、磨粒、吸附相、热稳定相和缓释相,并在剪切力作用下具有非线性流变特性。取得了如下显著的进步:1)抛光效率高;吸附相吸附磨粒形成“磨粒球”,防止磨粒陷入微米级固相粒子间隙或相互团聚,提高了参与加工的有效磨粒数,从而提升了抛光效率;2)热稳定性好;热稳定相吸收稳定抛光过程中产生的热量,防止抛光液由于温度升高剪切黏度降低导致流变特性衰退,从而提高抛光液的热稳定性;3)化学作用稳定性好;化学试剂缓释相向抛光液均匀释放化学试剂,从而提高抛光液的稳定性和使用寿命。

    基于非牛顿流体剪切流变效应的阶进式磨-抛加工方法

    公开(公告)号:CN112123023B

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202010767217.0

    申请日:2020-08-03

    Abstract: 一种基于非牛顿流体剪切流变效应的阶进式磨‑抛加工方法,包括以下步骤:(1)在具有剪切流变效应的非牛顿流体基液中混入磨料和添加剂,搅拌均匀,制成剪切流变磨抛液,加入机床磨削液站;(2)在完成传统粗磨、半精磨之后的精磨阶段,从砂轮切入端沿砂轮线速度方向对磨削区提供剪切流变磨拋液;(3)设置磨削深度大于零,实现工件表面低损伤磨削;(4)设置磨削深度等于零,对磨削表面进行磨‑抛复合加工;(5)设置砂轮与工件为非接触状态,对磨削表面进行剪切流变抛光,通过调整磨拋液流变特性、砂轮线速度、工件进给速度、砂轮‑工件间隙,控制抛光过程表面各点材料去除率。本发明易于实现,加工效率高、精度高、实用性强。

    一种适用于位移传感器测量大型圆形物时的横向对光装置

    公开(公告)号:CN111721208B

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202010489111.9

    申请日:2020-06-02

    Abstract: 一种适用于位移传感器测量大型圆形物时的横向对光装置,包括固定平台、移动平台和位移测量传感器,固定平台和移动平台上分别安装位移测量传感器,所述装置还包括准直光源和光学差分探测系统,固定平台上设置所述准直光源,移动平台上设置所述光学差分探测系统,所学差分探测系统包括聚焦透镜、分光镜、第一挡光板、第二挡光板、第一探测器和第二探测器,准直光源、聚焦透镜、分光镜、第一探测器和第二探测器依次连接形成光路,分光镜的折射方向与第一探测器之间设有第一挡光板,分光镜的反射方向与第二探测器之间设有第二挡光板。本发明提供了一种测量精度较高的适用于位移传感器测量大型圆形物时的横向对光装置。

    基于振动辅助力流变抛光技术的刀具刃口钝化装置及方法

    公开(公告)号:CN118905739A

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202411009254.X

    申请日:2024-07-26

    Abstract: 本发明公开了基于振动辅助力流变抛光技术的刀具刃口钝化装置及方法;所述钝化装置包括机架,机架上设有机械臂、抛光盘和刀具驱动机构;所述刀具驱动机构包括A伺服电机和传动轴;所述A伺服电机固定于机械臂的端部;所述传动轴上设有轴式音圈电机和集流环;所述轴式音圈电机的电源线与集流环相连接;所述轴式音圈电机的振动杆上固定有夹具,用于夹持待加工的刀具;所述夹具的外侧设有引流套;所述引流套与轴式音圈电机固定连接,其内侧壁上设有螺旋引流板;所述抛光盘与B伺服电机传动连接,由B伺服电机驱动转动。本发明的钝化装置通过轴式音圈电机振动和引流套引流来辅助优化力流变抛光工艺,实现了对刀具刃口的高效率、高质量抛光钝化。

    基于电流变效应的微结构原位磨抛加工装置及其加工方法

    公开(公告)号:CN114918742B

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202210552370.0

    申请日:2022-05-20

    Abstract: 本发明属于精密和超精密加工技术领域,具体涉及一种基于电流变效应的微结构原位磨抛加工装置及其加工方法,包括加工机构和驱动机构,加工机构包括金属结合剂砂轮、第一导电件、第二导电件和抛光电极,金属结合剂砂轮的底部具有打磨头,第一导电件与金属结合剂砂轮电连接,抛光电极设置于金属结合剂砂轮下端并与第二导电件电连接。本发明利用电流变效应增强抛光液粘度,强化磨削剪切面流体动压力场强度,抑制磨削表面损伤,进一步,利用电流变效应形成的柔性抛光头进行原位柔性抛光,可以解决微结构磨削后抛光难的问题,获得高表面质量的微结构表面,成本低、装置简单。

    一种抛光过程中抛光液大颗粒实时在线监测装置

    公开(公告)号:CN108145606B

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN201711179777.9

    申请日:2017-11-23

    Abstract: 一种抛光过程中抛光液大颗粒实时在线监测装置,包括光学系统、数据采集与处理系统、系统标定与检验和辅助系统,光学系统包括观察窗口、激光光源、激光发射光路、激光衰减接收光路和激光散射接收光路,实现对抛光液中大颗粒光衰减、光散射信号的光电转换,数据采集与处理系统包括激光衰减、激光散射信号的采集与处理的模拟与数字电路;标定及检验系统利用标准颗粒悬浮液对抛光液大颗粒检测系统进行标定,建立激光衰减、激光散射电信号与标准颗粒已知尺寸之间的关系;辅助系统包括抽样系统、清洗系统和气泡消除系统。本发明检测范围大,实时在线检测,对提升高表面完整性的抛光加工的良品率有重要作用,降低生产成本。

    一种单晶光纤高效抛光装置及方法

    公开(公告)号:CN115229653B

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN202210929431.0

    申请日:2022-08-03

    Abstract: 本发明属于高精度单晶光纤抛光设备领域,具体涉及一种单晶光纤高效抛光装置及方法,包括抛光盘机构、抛光带机构及轴向振动机构,抛光盘机构包括机架和抛光盘,抛光盘前后滑动安装于机架上,其上成排设置若干定位槽,抛光带机构包括抛光带和传动组件,传动组件用以带动抛光带循环转动,抛光带用以与单晶光纤接触,并带动单晶光纤自转,振动机构用以驱使抛光盘带动单晶光纤前后往复移动。本发明中的抛光带具有柔性特征,装有弹性加压结构,都不易对工件造成表面损坏。抛光液中磨粒附着面广,磨粒对工件表面微凸峰进行去除,抛光效率较高。且加工工件既可自转又可轴向移动,避免轨迹重复、抛光均匀,抛光压力可控,抛光效果良好。

Patent Agency Ranking