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公开(公告)号：CN116165850B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202310119397.5
申请日：2023-01-17
Abstract: 本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头，该物镜镜头包括：光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组，第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜；第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜；第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜；第一透镜组负责接收光源，并将光源折射至第二透镜组，第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将收集的光线折射至第三透镜组，第三透镜组将光线将聚焦于基底，物镜镜头中的透镜均处于同一光轴，本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN118625598A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310740014.6
申请日：2023-06-21
Abstract: 本发明公开了一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶按质量份数计，包括以下组分：1‑3份聚羟基苯乙烯化合物，1‑7份活性交联剂，0.2‑0.5份双光子引发剂，0‑0.5份增敏剂，0～90份溶剂。本发明提供的基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶具有良好的成膜性，利用飞秒激光直写光刻系统，可以刻写出满足微纳加工需求的光刻胶线条，具有良好的精度，在微纳电子器件、集成电路和显示面板等半导体制造领域内有巨大的应用前景。
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公开(公告)号：CN118067678A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410261503.8
申请日：2024-03-07
Abstract: 本发明公开了一种多模态点扫描超分辨显微成像系统，所述系统主要包括扫描控制模块，采集控制模块，测量任务信息处理模块和界面显示模块。包括界面显示控制模块、测量任务信息处理模块、采集控制模块、空间光调制器控制模块和扫描控制模块；所述的多模态包括常规的激光扫描共聚焦模式、受激发射损耗显微镜模式、荧光辐射微分超分辨显微模式、荧光寿命成像模式以及各自模式下的多探测器像素重组图像显微方法，所述系统着眼于支持以上模式的点扫描超分辨成像系统，界面美观，显示合理多样，功能全面且强大，操作简单，顺应了科技飞速发展背景下的实用需求，非常适合在光学显微系统的构建及相关应用。
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公开(公告)号：CN113834515B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202110946914.7
申请日：2021-08-18
IPC: G01D21/00
Abstract: 本发明公开了一种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测装置与方法，该装置基于光参量效应产生红外波段飞秒激光，脉冲时间短、峰值能量高；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中时间分辨率低，无法实现超快动力学过程原位探测的问题。基于反射式物镜对红外飞秒激光进行聚焦，并结合共聚焦光学系统；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中空间分辨率低，无法实现局部精细区域动力学过程原位探测的问题。本发明还公开了两种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测方法，可以分别针对空间定点动力学过程，以及材料超快动力学过程进行原位探测，方法简单、适用面广、拓展性强。
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公开(公告)号：CN112666803B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110048240.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114019763B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202111120476.5
申请日：2021-09-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN116612051A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202310493296.4
申请日：2023-05-05
IPC: G06T5/10 , G06T5/00 , G06T3/40 , G06N3/0464
Abstract: 一种基于频谱域滤波的干涉散射图像弱信号的实时恢复方法和系统，通过拍摄一幅无样品图像或初始化一个全一矩阵，并结合系统特征的干涉点扩散函数在频谱域进行信号的增强，实现对弱信号的恢复，和动态背景的重构。本发明针对干涉散射成像系统的拍摄图像，对图像微弱信号进行实时恢复。传统干涉散射图像恢复方法大多采用多帧平均方式消除噪声，对图像数量要求大，无法做到实时恢复；现有单帧恢复方式，恢复结果噪声大，且对信背比较小图像无法恢复。本发明通过根据系统特性仿真得到的干涉点扩散函数图像，对实验拍摄的干涉散射图像进行频谱增强，实现对观测信号的实时恢复，同时可以大大提高系统的时间分辨率，且适用于动态、静态样品。
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公开(公告)号：CN116540504A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310807886.X
申请日：2023-07-04
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN116481983A
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN202310461722.6
申请日：2023-04-26
Abstract: 一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置，包括连续激光器、多个透镜、空间滤波器、波片、一个偏振分束镜、功率计、物镜、样品台、和多个反射镜，连续激光器的激光经一组透镜扩束准直并空间滤波后进入1/2波片，进行偏振方向调节。调节后的偏振光进入偏振分束棱镜将激光分为P光与S光，S光经物镜后宽场照明样品，颗粒散射光与反射光经物镜收集后进入偏振分束棱镜，该S光在偏振分束棱镜出射口形成部分正交偏振。本发明还提供一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置的成像方法。本发明通过S光偏振照明并结合正交偏振原理，有效抑制背景反射光，提高了信号对比度；同时，结合干涉散射显微成像信号增强的优势，实现对样品表面小尺寸颗粒极弱信号的高信噪比检测。
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公开(公告)号：CN115839936B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202211589202.5
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于锁相探测的结构光照明超分辨显微成像重构方法，包括：1)获取不同相位、不同方向的结构光照明原始图像；2)估算出条纹的调制频率和相位参数；3)进行锁相解调提取出样品的在焦信息并滤除离焦信息；4)将锁相探测得到的结果作为原始输入进行传统超分辨重构，重建出具有层切能力、高信背比的超分辨图片，本发明在保证重构的图片具有较高分辨率的同时，能有效去除离焦的背景信息干扰。
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