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公开(公告)号:CN104844197B
公开(公告)日:2017-07-14
申请号:CN201510231730.7
申请日:2015-05-08
Applicant: 济南大学
IPC: C04B35/475 , C04B35/622 , C01G23/00
Abstract: 本发明属于电子功能材料领域,具体涉及一种在硅基片上生长(100)择优取向钛酸铋钠基薄膜的方法。该系列薄膜的化学通式为Na0.5Bi0.5Ti1‑yXyO3‑δ,其中X为掺杂元素;y为掺杂元素的掺杂量;δ是为了维持电荷平衡所失去的氧原子的数目。本发明采用优化的化学溶液沉积制备技术,在硅基片上,制备了具有(100)择优取向的钛酸铋钠基薄膜。本发明整个制备工艺过程简单、易控,成本低廉,且制备出的薄膜晶相单一,择优取向度高。
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公开(公告)号:CN104844197A
公开(公告)日:2015-08-19
申请号:CN201510231730.7
申请日:2015-05-08
Applicant: 济南大学
IPC: C04B35/475 , C04B35/622 , C01G23/00
Abstract: 本发明属于电子功能材料领域,具体涉及一种在硅基片上生长(100)择优取向钛酸铋钠基薄膜的方法。该系列薄膜的化学通式为Na0.5Bi0.5Ti1-yXyO3-δ,其中X为掺杂元素;y为掺杂元素的掺杂量;δ是为了维持电荷平衡所失去的氧原子的数目。本发明采用优化的化学溶液沉积制备技术,在硅基片上,制备了具有(100)择优取向的钛酸铋钠基薄膜。本发明整个制备工艺过程简单、易控,成本低廉,且制备出的薄膜晶相单一,择优取向度高。
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