一种MOF衍生的NiO-Co3O4丙酮气体传感器的制备方法

    公开(公告)号:CN113740391B

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202111127151.X

    申请日:2021-09-26

    Abstract: 本发明为一种MOF衍生的NiO‑Co3O4丙酮气体传感器的制备方法。该方法采用沸石咪唑酯骨架结构材料(ZIF‑67),通过退火得到纯Co3O4材料,以该材料作为基底材料,利用醋酸镍为复合剂,反应后经过焙烧,涂覆到陶瓷管表面经烤干灯烤干,得到气体传感器。本发明得到的材料粉体具有比表面积大、晶粒分布均匀等特点。所制得的传感器对丙酮具有选择性好,工作温度低,灵敏度高等优点。

    一种金属有机框架衍生的CuO/ZnO纳米材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114506873A

    公开(公告)日:2022-05-17

    申请号:CN202210041923.6

    申请日:2022-01-14

    Abstract: 本发明提供了一种金属有机框架衍生的CuO/ZnO纳米材料及其制备方法与应用,该制备方法包括:(1)将ZIF‑8粉体进行退火处理,得到ZnO粉体;(2)将所述ZnO粉体、硝酸铜和2‑甲基咪唑加入至N,N‑二甲基甲酰胺中混匀后并进行反应,得到铜锌复合材料;(3)对所述铜锌复合材料进行退火处理,得到所述金属有机框架衍生的CuO/ZnO纳米材料。本发明制备得到的CuO/ZnO纳米材料对硫化氢具有优异的灵敏度和选择性,在150℃时对浓度为10ppm的硫化氢的响应灵敏度能达到900,且制备方法简单、周期短、成本低,适用于大批量生产。

    一种CuO/In2O3二维多孔纳米薄片气敏材料、气敏元件及其应用

    公开(公告)号:CN119797414A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411943394.4

    申请日:2024-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种CuO/In2O3二维多孔纳米薄片气敏材料、气敏元件及其应用。以去离子水、乙醇、乙二醇的混合作为溶剂,硝酸铟为前驱体,水热加煅烧处理,获得了二维多孔薄片状氧化铟。然后以氧化铟为基体,表面复合氧化铜纳米颗粒,得到了CuO/In2O3复合气敏材料。该复合气敏材料为二维多孔薄片,二维多孔薄片具有较大的有效表面积,多孔结构提供了快速、连续的电荷传输通道和气体扩散通道,且CuO为酸性H2S气体的吸附提供了碱性位点,使得CuO/In2O3的气体传感器对H2S气体在室温下具有高灵敏度、高选择性、快响应和低检测限。本发明制备的CuO/In2O3复合气敏材料,在检测H2S气体方面具有广阔的应用前景,且其合成工艺精简,合成时间短,成本低,适于大批量生产。

    一种金属有机框架衍生的CuO/ZnO纳米材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN114506873B

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202210041923.6

    申请日:2022-01-14

    Abstract: 本发明提供了一种金属有机框架衍生的CuO/ZnO纳米材料及其制备方法与应用,该制备方法包括:(1)将ZIF‑8粉体进行退火处理,得到ZnO粉体;(2)将所述ZnO粉体、硝酸铜和2‑甲基咪唑加入至N,N‑二甲基甲酰胺中混匀后并进行反应,得到铜锌复合材料;(3)对所述铜锌复合材料进行退火处理,得到所述金属有机框架衍生的CuO/ZnO纳米材料。本发明制备得到的CuO/ZnO纳米材料对硫化氢具有优异的灵敏度和选择性,在150℃时对浓度为10ppm的硫化氢的响应灵敏度能达到900,且制备方法简单、周期短、成本低,适用于大批量生产。

    一种液相合成的正丁醇气体传感器的制备方法

    公开(公告)号:CN115326888A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210915725.8

    申请日:2022-08-01

    Abstract: 本发明为一种液相合成的正丁醇气体传感器的制备方法。该方法采用简便的一步水热法,利用柠檬酸根离子同时起到络合剂和还原剂的作用,再通过氯金酸的加入,提供Au源,生成纳米Au颗粒,进而纳米颗粒会附着在结晶的LaFeO3晶体表面,抑制晶核进一步的生长从而使得LaFeO3发育成核壳结构,并退火。通过控制负载比例、反应温度、退火温度、搅拌速率等参数,在核壳结构的多孔LaFeO3表面负载了0价态的Au纳米粒子,形成肖特基结,得到Au‑LaFeO3复合材料,经涂覆后制得气敏元件。本发明克服了现有器件选择性差、工作温度高等问题,提高了对正丁醇的灵敏度,检测下限达到500ppb,长期稳定性和重复性良好。

    一种光催化辅助化学机械抛光液及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118852991A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202411018919.3

    申请日:2024-07-29

    Abstract: 本发明公开了一种光催化辅助化学机械抛光液及其制备方法和应用。该化学机械抛光液由磨料、氧化剂、表面活性剂、pH调节剂和去离子水组成。该制备方法包括以下步骤:S1、在搅拌的条件下,将磨料、氧化剂和表面活性剂加入到去离子水中,搅拌均匀后,制得混合液;S2、在搅拌的条件下,将pH调节剂加入到混合液中,搅拌均匀后,得到pH为8~11.5的化学机械抛光液。所述光催化辅助化学机械抛光液的应用,将该化学机械抛光液与光源配合,用于化学机械抛光的精抛过程。本发明研制的化学机械抛光液极大地提高了化学机械抛光效率,能够获得高效低损伤、光滑平坦化的抛光材料表面。本发明采用二氧化铈作为化学机械抛光的磨料。

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