公开(公告)号：CN118852991A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202411018919.3

申请日：2024-07-29

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 齐宇航 ,  赖景辉 ,  李子阳 ,  张储 ,  潘国峰 ,  杨学莉

IPC: C09G1/02 ,  B24B37/04 ,  B24B37/10 ,  B24B37/34 ,  B24B53/017 ,  B24B55/06 ,  B24B7/22

Abstract: 本发明公开了一种光催化辅助化学机械抛光液及其制备方法和应用。该化学机械抛光液由磨料、氧化剂、表面活性剂、pH调节剂和去离子水组成。该制备方法包括以下步骤：S1、在搅拌的条件下，将磨料、氧化剂和表面活性剂加入到去离子水中，搅拌均匀后，制得混合液；S2、在搅拌的条件下，将pH调节剂加入到混合液中，搅拌均匀后，得到pH为8～11.5的化学机械抛光液。所述光催化辅助化学机械抛光液的应用，将该化学机械抛光液与光源配合，用于化学机械抛光的精抛过程。本发明研制的化学机械抛光液极大地提高了化学机械抛光效率，能够获得高效低损伤、光滑平坦化的抛光材料表面。本发明采用二氧化铈作为化学机械抛光的磨料。