一种氧化物介质钝化层材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN119677241A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202411891918.X

    申请日:2024-12-20

    Applicant: 江苏大学

    Abstract: 本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种氧化物介质钝化层材料及其制备方法。本发明通过在HfO2薄膜中引入OH陷阱缺陷,利用OH陷阱缺陷辅助空穴载流子隧穿运动,提升空穴在HfO2薄膜的传输,从而进一步提升Si基光电探测器和太阳能电池器件的性能。所述的掺杂OH的HfO2薄膜材料作为介质钝化层,可以显著提升钙钛矿CH3NH3PbI3/Si异质结光电探测器的性能,具有很强的工业实用性。

    一种溶剂热处理的二维/三维钙钛矿异质结、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN119584834A

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202411679138.9

    申请日:2024-11-22

    Applicant: 江苏大学

    Abstract: 本发明提供了一种溶剂热处理的二维/三维钙钛矿异质结、制备方法及应用。本发明在三维卤化铅钙钛矿薄膜表面制备一层二维钙钛矿钝化层后,通过AX/IPA混合蒸汽进行溶剂热处理,消除二维/三维钙钛矿异质结界面处的卤化铅副产物,增加二维钙钛矿中的卤化物八面体层数。本发明不仅有效降低薄膜表面的非辐射负荷中心,增强二维钙钛矿的钝化效果,提高了光电转换效率;而且增强了载流子的面外传输能力,提高了垂直方向的导电性,减少电流损耗,提高了器件的响应度及探测率;解决了传统溶液法制备的二维/三维钙钛矿异质结中溶剂不兼容的问题,实现了对钙钛矿薄膜表面缺陷的有效钝化,为制备高性能稳定的钙钛矿薄膜光电器件提供了有力的技术支撑。

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