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公开(公告)号：CN119390051A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202411549054.3
申请日：2024-11-01
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C01B32/05 , H01M4/04 , H01M4/587 , H01M4/133 , H01M10/0525
Abstract: 本发明提供了一种锂离子电池负极硬碳材料的制备方法、锂离子负极、锂离子电池和涉电设备，涉及锂离子电池领域。制备方法包括：取芋头皮下部分蒸熟，加适量水捣成细腻的芋泥；冰箱冷冻定型后进行冷冻干燥，得到预处理的生物质硬碳材料；将所述的材料在保护气氛下进行高温热处理；完成煅烧后，加入酸清洗，后进行干燥；将活性物质进行球磨并过筛，得到粒径为400目的粉体。锂离子电池负极，其原料包括芋头制成的硬碳材料。锂离子电池包括锂离子电池负极。涉电设备包括锂离子电池。本发明采用价格低廉且易得的材料制备硬碳材料，相较于传统的电池负极拥有更强的锂离子负载能力，且制备方法简单，操作方便可控。
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公开(公告)号：CN111982289B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202010824905.6
申请日：2020-08-17
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: G01J4/00
Abstract: 本发明提供的是一种局部滤波提高空间调制偏振成像频域解调速度的方法。其过程包括：A1，对中心波长为λ的入射光进行空间调制偏振成像，得到包含偏振信息的干涉图像；A2，对干涉图像进行变换在频域中找到中心波长λ窄带宽入射光的Stokes矢量被调制的位置的坐标；A3，在进行频域中低通滤波处理前进行局部区域滤波数据组的生成；A4，在频域中对各Stokes矢量使用滤波数据组进行滤波解调出偏振分量。本发明可用于高像素偏振图像的解调，可广泛用于遥感偏振成像等领域。
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公开(公告)号：CN110877978B
公开(公告)日：2022-04-05
申请号：CN201911336342.X
申请日：2019-12-23
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C04B35/475 , C04B35/622
Abstract: 本发明公开了一种氧化物(Na0.5Bi0.5)1‑xMexTiO3稀磁铁电半导体陶瓷及其制备方法，其组成通式为：(Na0.5Bi0.5)1‑xMexTiO3，其中0.02≤x≤0.1，Me为Ni、Co、Fe、Mn中的一种，该陶瓷的制备方法步骤为：1）按(1‑x)/2：(1‑x)/2：x：1的摩尔比例称取高纯度的Bi2O3：Na2CO3：MeO：TiO2粉体原料，以无水乙醇为介质置于行星球磨机中充分混合后取出干燥、研磨，再煅烧合成(Na0.5Bi0.5)1‑xMexTiO3粉体；2）将(Na0.5Bi0.5)1‑xMexTiO3粉体与质量浓度为5%的PVA溶液混合均匀，烘干，研磨成粉末，将粉末压制成陶瓷坯体；3）将陶瓷坯体高温烧结，即得到氧化物(Na0.5Bi0.5)1‑xMexTiO3稀磁铁电半导体陶瓷。该(Na0.5Bi0.5)1‑xMexTiO3稀磁铁电半导体陶瓷可用于制造光电器件、光传感器、光探测器、光伏器件和多功能电磁器件等领域中。
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公开(公告)号：CN112326034A
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN202011174125.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明提供的是一种通过调整相机角度降低偏振信息受到干扰的方法。其过程包括：A1，调整相机与偏振镜头之间的角度，得到包含偏振信息的干涉图像；A2，对干涉图像进行变换确定各Stokes矢量在频域中的分布情况；A3，通过进一步的调整镜头与相机之间的角度使得特定Stokes矢量处在受到干扰较小的位置；A4，通过对各Stokes矢量的中心位置进行低通滤波处理得到目标的偏振信息。本发明可用于目标特定偏振信息的高质量解调，可广泛用于偏振成像等领域。
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公开(公告)号：CN111982289A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010824905.6
申请日：2020-08-17
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: G01J4/00
Abstract: 本发明提供的是一种局部滤波提高空间调制偏振成像频域解调速度的方法。其过程包括：A1，对中心波长为λ的入射光进行空间调制偏振成像，得到包含偏振信息的干涉图像；A2，对干涉图像进行变换在频域中找到中心波长λ窄带宽入射光的Stokes矢量被调制的位置的坐标；A3，在进行频域中低通滤波处理前进行局部区域滤波数据组的生成；A4，在频域中对各Stokes矢量使用滤波数据组进行滤波解调出偏振分量。本发明可用于高像素偏振图像的解调，可广泛用于遥感偏振成像等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111953968A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010825528.8
申请日：2020-08-17
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: H04N17/00
Abstract: 本发明提供的是一种空间调制偏振成像检测像面长宽和像元长宽比的方法。其过程包括：A1，对中心波长为λ1的入射光进行空间调制偏振成像，得到包含偏振信息的干涉图像；A2，对干涉图像进行变换在频域中找到中心波长λ1窄带宽入射光的Stokes矢量被调制的位置的坐标；A3，通过入射光波长λ1与成像系统相关参数的关系可以计算出像元的平均长度；A4，分别计算出像元在行和列方向上的长度D1和D2；A5，通过D1和D2可以计算出成像相机整体在行和列上的长度，同时还能计算出像元的长宽比值，可以检测像元是否正确。本发明可用于相机像元尺寸的检测，可广泛用于成像设备制造检测等领域。
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公开(公告)号：CN108801158B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201810939618.2
申请日：2018-08-17
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明提供一种光栅尺标定装置，包括运动台和测量装置，运动台处于封闭的微环境区域内，测量装置设置于运动台上；测量装置包括承载台；承载台上设置有4个读头，每个读头分别处于一四边形的顶点处；在每个读头的上方设置有一平面光栅；承载台的相对的两侧面的外侧各设置有一个第二反射镜，由第二平面延伸形成第四反射镜，承载台的另外两相对的侧面的其中一个侧面的外侧设置有第一反射镜；测量装置还包括第一干涉仪、第二干涉仪和第三干涉仪，第二干涉仪与第三干涉仪与第二反射镜同侧设置，第一干涉仪与第一反射镜同侧设置；测量装置还包括两第三反射镜，第二干涉仪与第三干涉仪发出的光线的一部分经第四反射镜反射进入到第三反射镜。
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公开(公告)号：CN119065049A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202411467117.0
申请日：2024-10-21
Applicant: 桂林电子科技大学 , 南宁桂电电子科技研究院有限公司
IPC: G02B6/00 , G02F1/1335 , G02F1/13357
Abstract: 本发明提供一种提高显示器分光均匀性及亮度的导光板，所述导光板上在光源一侧设置锯齿形微结构来改变光线在导光板中的折射和反射。本发明通过在导光板上设置锯齿微结构，实现了光线在导光板中的高效传输和均匀分布，从而提高了显示器的分光均匀性和亮度。
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公开(公告)号：CN111982288B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202010824851.3
申请日：2020-08-17
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明提供的是一种在空间调制偏振成像频域解调中降低干扰的方法。其过程包括：A1，中心波长为λ的窄带宽入射光进行空间调制偏振成像，得到包含偏振信息的干涉图像；A2，对干涉图像进行变换在频域中找到中心波长λ窄带宽入射光的Stokes矢量被调制的位置；A3，在进行滤波处理前需要将除了要解调的Stokes矢量所在峰值点之外，其它Stokes矢量峰值点附近区域需要用附近值进行覆盖处理；A4，以各Stokes矢量峰值点的位置为中心对频域进行低通滤波处理，将目标的偏振信息分别解调出来。本发明可用于空间调制偏振成像各偏振信息的频域解调，可广泛用于遥感偏振成像等领域。
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公开(公告)号：CN113074641A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202110298319.7
申请日：2021-03-19
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明提供一种计算光栅干涉仪位移补偿参数的装置和方法，包括运动台119、外差式光栅干涉仪和外差式激光干涉仪。所述外差式光栅干涉仪包括读数头(115‑118)、二维光栅(111‑114)，4块二维光栅放置在运动台(119)上，每块二维光栅对应一个读数头，读数头出射激光束至二维光栅，并收集二维光栅的衍射光束。所述外差式激光干涉仪包括干涉仪镜组(101‑103)、干涉仪反射镜(104‑110)，水平向反射镜(116‑110)分别放置于运动台的3个侧面，垂向反射镜(104、105)放置在运动台上方。外差式光栅干涉仪和外差式激光干涉仪能够同时测量运动台的位移，根据上述布局建立外差式光栅干涉仪和外差式激光干涉仪的测量模型；设定运动台的轨迹，在不同轨迹下获取外差式光栅干涉仪和外差式激光干涉仪分别测量的运动台位移，以外差式激光干涉仪的测量数据为参考，计算外差式光栅干涉仪测量模型中的位移补偿参数。本发明可用于超精密光栅干涉仪的校准。
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