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公开(公告)号:CN1792933B
公开(公告)日:2010-08-18
申请号:CN200510125734.3
申请日:2005-12-01
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C25/607 , C03C3/06 , C03C2201/22 , C03C2203/54 , G02B6/02
Abstract: 光纤的处理方法包括:将光纤容纳在处理室内部;将含氘气体引入处理室中;以及在氘处理步骤中将光纤暴露于含氘气体的气氛。在氘处理步骤中,氘处理期间处理室中的氘浓度D根据以下来计算:处理室内部含氘气体中氘浓度的初始值A、处理室的周围气氛中的氧浓度B、以及处理室内部含氘气体中的氧浓度C,并且基于所计算的氘浓度D处理室中的氘浓度得到控制。根据本发明,也可使用其它气体,如含氢气体或含氮气体。
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公开(公告)号:CN1792933A
公开(公告)日:2006-06-28
申请号:CN200510125734.3
申请日:2005-12-01
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C25/607 , C03C3/06 , C03C2201/22 , C03C2203/54 , G02B6/02
Abstract: 光纤的处理方法包括:将光纤容纳在处理室内部;将含氘气体引入处理室中;以及在氘处理步骤中将光纤暴露于含氘气体的气氛。在氘处理步骤中,氘处理期间处理室中的氘浓度D根据以下来计算:处理室内部含氘气体中氘浓度的初始值A、处理室的周围气氛中的氧浓度B、以及处理室内部含氘气体中的氧浓度C,并且基于所计算的氘浓度D处理室中的氘浓度得到控制。根据本发明,也可使用其它气体,如含氢气体或含氮气体。
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