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公开(公告)号：CN1942412B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200580011374.2
申请日：2005-01-21
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03C25/60
CPC classification number: C03C25/607
Abstract: 一种光纤加工装置，其包括容纳光纤的反应器(3，3a，3b和3c)、具有入口(19)和出口(21)的单个抽吸泵(7)、向其中传送含氘气体的储存腔室(5)、以及包括多个阀的回路部分(9，59)，所述多个阀置于连接反应器、抽吸泵和储存腔室的多个通路上。所述回路部分包括：第一通道，其用于将反应器腔室中的含氘气体返回到储存腔室中；第二通道，其用于传送空气至反应器腔室由此产生压力；第三通道，其用于反应器腔室的减压；和第四通道，其用于将储存腔室中的含氘气体供应至反应器腔室中。也要求保护使用该装置的方法。
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公开(公告)号：CN1898585A
公开(公告)日：2007-01-17
申请号：CN200480038162.9
申请日：2004-02-18
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03C4/0042 , C03B2201/22 , C03C25/607 , G02B6/02 , Y02P40/57
Abstract: 光纤维处理方法，其至少具备使收纳有光纤维的空间内形成减压气氛的第一工序和向前述空间内导入含氘气体，使前述光纤维曝露在前述含氘气体中的第二工序。
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公开(公告)号：CN1792933B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200510125734.3
申请日：2005-12-01
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C25/607 , C03C3/06 , C03C2201/22 , C03C2203/54 , G02B6/02
Abstract: 光纤的处理方法包括：将光纤容纳在处理室内部；将含氘气体引入处理室中；以及在氘处理步骤中将光纤暴露于含氘气体的气氛。在氘处理步骤中，氘处理期间处理室中的氘浓度D根据以下来计算：处理室内部含氘气体中氘浓度的初始值A、处理室的周围气氛中的氧浓度B、以及处理室内部含氘气体中的氧浓度C，并且基于所计算的氘浓度D处理室中的氘浓度得到控制。根据本发明，也可使用其它气体，如含氢气体或含氮气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100417958C
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200480038162.9
申请日：2004-02-18
Applicant: 株式会社藤仓
CPC classification number: C03C4/0042 , C03B2201/22 , C03C25/607 , G02B6/02 , Y02P40/57
Abstract: 光纤维处理方法，其至少具备使收纳有光纤维的空间内形成减压气氛的第一工序和向前述空间内导入含氘气体，使前述光纤维曝露在前述含氘气体中的第二工序。
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公开(公告)号：CN101006372A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200580028066.0
申请日：2005-08-23
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/036
CPC classification number: G02B6/02266 , G02B6/02223 , G02B6/02242 , G02B6/03611 , G02B6/03644 , G02B6/0365 , G02B6/03672 , G02B6/03688
Abstract: 本发明提供一种单模光纤，其截止波长在1260nm以下，零色散波长在1300nm～1324nm的范围内，零色散斜率在0.093ps/nm2/km以下，波长1310nm下的模场直径在5.5μm～7.9μm的范围内，以及以半径10mm卷绕十次时产生的弯曲损耗，在波长1550nm下为0.5dB以下。
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公开(公告)号：CN101006372B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200580028066.0
申请日：2005-08-23
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: G02B6/036
CPC classification number: G02B6/02266 , G02B6/02223 , G02B6/02242 , G02B6/03611 , G02B6/03644 , G02B6/0365 , G02B6/03672 , G02B6/03688
Abstract: 本发明提供一种单模光纤，其截止波长在1260nm以下，零色散波长在1300nm～1324nm的范围内，零色散斜率在0.093ps/nm2/km以下，波长1310nm下的模场直径在5.5μm～7.9μm的范围内，以及以半径10mm卷绕十圈时产生的弯曲损耗，在波长1550nm下为0.5dB以下。
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公开(公告)号：CN1942412A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200580011374.2
申请日：2005-01-21
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03C25/60
CPC classification number: C03C25/607
Abstract: 一种光纤加工装置，其包括容纳光纤的反应器(3，3a，3b和3c)、具有入口(19)和出口(21)的单个抽吸泵(7)、向其中传送含氘气体的储存腔室(5)、以及包括多个阀的回路部分(9，59)，所述多个阀置于连接反应器、抽吸泵和储存腔室的多个通路上。所述回路部分包括：第一通道，其用于将反应器腔室中的含氘气体返回到储存腔室中；第二通道，其用于传送空气至反应器腔室由此产生压力；第三通道，其用于反应器腔室的减压；和第四通道，其用于将储存腔室中的含氘气体供应至反应器腔室中。也要求保护使用该装置的方法。
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公开(公告)号：CN1792933A
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN200510125734.3
申请日：2005-12-01
Applicant: 株式会社藤仓
IPC: C03C21/00
CPC classification number: C03C25/607 , C03C3/06 , C03C2201/22 , C03C2203/54 , G02B6/02
Abstract: 光纤的处理方法包括：将光纤容纳在处理室内部；将含氘气体引入处理室中；以及在氘处理步骤中将光纤暴露于含氘气体的气氛。在氘处理步骤中，氘处理期间处理室中的氘浓度D根据以下来计算：处理室内部含氘气体中氘浓度的初始值A、处理室的周围气氛中的氧浓度B、以及处理室内部含氘气体中的氧浓度C，并且基于所计算的氘浓度D处理室中的氘浓度得到控制。根据本发明，也可使用其它气体，如含氢气体或含氮气体。
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