公开(公告)号：CN107275271A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201710214125.8

申请日：2017-04-01

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 铃木宪一 ,  小菅隆一 ,  斎藤贤一郎

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC classification number: F25D21/04 ,  F26B15/00 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67034

Abstract: 提供一种能抑制结露的产生的基板搬运装置、包括该基板搬运装置的基板处理装置、以及抑制在基板搬运装置产生结露的结露抑制方法。该基板搬运装置包括：基板把持部(301a、301b)，该基板把持部(301a、301b)对基板进行把持；筐体(300)；驱动机构(302)，该驱动机构(302)的至少一部分设于所述筐体(300)内，并使用空气对所述基板把持部(301a、301b)进行驱动。所述驱动机构(302)能向所述筐体(300)内供给空气。

公开(公告)号：CN116252241A

公开(公告)日：2023-06-13

申请号：CN202211555298.3

申请日：2022-12-06

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 马场枝里奈 ,  深谷孝一 ,  武渕健一 ,  斎藤贤一郎

IPC: B24B37/34 ,  H01L21/67 ,  B08B3/02 ,  B08B1/00 ,  B24B37/10 ,  B24B55/06 ,  B24B55/00 ,  B24B27/00

Abstract: 本发明提供一种基板清洗装置及基板研磨装置，效率良好地去除在研磨处理后的基板、膜片以及固定环上附着的颗粒。基板清洗装置被设于包括研磨平台及顶环的基板研磨装置，对研磨后的基板的表面进行清洗，研磨平台具有进行基板研磨的研磨面，顶环一边利用固定环来围绕基板的外周部，一边利用膜片来保持基板。顶环于在研磨平台的上方进行基板研磨的研磨位置、与在研磨平台的侧方进行基板的交接的交接位置之间移动自如。基板清洗装置是对应于研磨位置以及交接位置之间的清洗位置而设，且包括：第一喷射单元，包含对位于清洗位置的基板、膜片以及固定环喷射清洗液的多个清洗喷嘴；以及第二喷射单元，包含对位于清洗位置的基板喷射冲洗液的基板冲洗喷嘴。

公开(公告)号：CN107275271B

公开(公告)日：2023-04-14

申请号：CN201710214125.8

申请日：2017-04-01

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 铃木宪一 ,  小菅隆一 ,  斎藤贤一郎

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 提供一种能抑制结露的产生的基板搬运装置、包括该基板搬运装置的基板处理装置、以及抑制在基板搬运装置产生结露的结露抑制方法。该基板搬运装置包括：基板把持部(301a、301b)，该基板把持部(301a、301b)对基板进行把持；筐体(300)；驱动机构(302)，该驱动机构(302)的至少一部分设于所述筐体(300)内，并使用空气对所述基板把持部(301a、301b)进行驱动。所述驱动机构(302)能向所述筐体(300)内供给空气。