光衍射元件、光拾取器及光衍射元件的制造方法

    公开(公告)号:CN103547950B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201280024552.5

    申请日:2012-03-23

    Abstract: 提供一种光衍射元件,在抑制元件整体的厚度的同时还保持了区域的强度。光衍射元件包括:基板;取向层,形成于基板的一侧面上,在至少一部分区域中高分子以相对于基板的面垂直或倾斜的方式取向;以及液晶层,形成于取向层上;其中,液晶层具有周期性形成的、液晶的取向方向互不相同的多个取向图案;多个取向图案中的至少一部分取向图案的取向方向依照形成于取向图案下面的取向层的至少一部分区域的取向而相对于基板的面垂直或倾斜。

    曝光装置、掩模及光学膜

    公开(公告)号:CN104685417A

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201280076086.5

    申请日:2012-10-26

    Abstract: 曝光装置变得复杂。一种曝光装置,其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部,所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材;所述第一偏振光输出部朝向取向膜,输出第一偏振光方向的第一偏振光;所述第二偏振光输出部配置于输送方向上比第一偏振光输出部靠下游侧,朝向取向膜输出第二偏振光方向的第二偏振光,所述第二偏振光方向以小于90°的角度与第一偏振光方向交叉;所述第一掩模部配置于基材与第一偏振光输出部之间,形成有使对取向膜进行曝光的第一偏振光透过的第一开口部,并对第一偏振光进行遮光;所述第二掩模部配置于基材与第二偏振光输出部之间,形成有使对取向膜进行曝光的第二偏振光透过的第二开口部,并对第二偏振光进行遮光;第一开口部及第二开口部形成为对具有取向膜的某个区域进行重复曝光;第一开口部包含使第一偏振光朝向区域透过的第一开口区域;第二开口部包含使第二偏振光朝向区域透过的第二开口区域。

    曝光装置、掩模及光学膜

    公开(公告)号:CN104685417B

    公开(公告)日:2017-06-27

    申请号:CN201280076086.5

    申请日:2012-10-26

    Abstract: 曝光装置变得复杂。一种曝光装置,其其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部,所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材;所述第一偏振光输出部朝向取向膜,输出第一偏振光方向的第一偏振光;所述第二偏振光输出部配置于输送方向上比第一偏振光输出部靠下游侧,朝向取向膜输出第二偏振光方向的第二偏振光,所述第二偏振光方向以小于90°的角度与第一偏振光方向交叉;所述第一掩模部配置于基材与第一偏振光输出部之间,形成有使对取向膜进行曝光的第一偏振光透过的第一开口部,并对第一偏振光进行遮光;所述第二掩模部配置于基材与第二偏振光输出部之间,形成有使对取向膜进行曝光的第二偏振光透过的第二开口部,并对第二偏振光进行遮光;第一开口部及第二开口部形成为对具有取向膜的某个区域进行重复曝光;第一开口部包含使第一偏振光朝向区域透过的第一开口区域;第二开口部包含使第二偏振光朝向区域透过的第二开口区域。

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