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公开(公告)号：CN114174820B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202080053516.6
申请日：2020-07-17
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够在不降低检体处理能力的情况下测定残留的检体分析装置。本发明的检体分析装置测定包含第一检体和第一内部标准物质的第一试样，接着测定包含第二检体和第二内部标准物质的第二试样，使用测定所述第一试样时测定出的所述第一内部标准物质的量和测定所述第二试样时测定出的所述第二内部标准物质的量，计算所述第二试样中包含的所述第二检体的量(参照图6)。
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公开(公告)号：CN116472455A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202180077119.7
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N27/62
Abstract: 本发明提供一种能够确定装置的异常部位的质量分析装置的控制方法。该质量分析装置包括对试料中的化合物进行电离的离子源；根据质荷比分离离子的质量分析部；以及形成将由离子源生成的离子输送到质量分析部的电场的多个电极，该质量分析装置的控制方法中，通过离子源对试料进行电离，通过离子的透过率的时间变化来检测堆积在电极和构成质量分析部的四极滤质器中的离子，根据离子量相对于离子源的气体流量或电压的变化来检测离子源的电离效率的变化。
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公开(公告)号：CN115210847A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202180017548.5
申请日：2021-02-10
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种进一步提高离子的透过效率的质量分析装置。在使在离子源(101)产生的离子通过具备电极的真空室并将其朝向检测器(106)移送的质量分析装置中，真空室包括由细孔(104)连通的第一真空室(107)和第二真空室(108)，含有从离子源(101)导入到第一真空室(107)的离子的气流通过第一真空室(107)内的离子导向件(103)分离成气流(704)和离子流(703)。第一真空室(107)具备减少分离出的气流(704)与离子流(703)的混合的整流板(113)。
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公开(公告)号：CN117980739A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280062295.8
申请日：2022-09-21
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本公开的目的是提供一种能够在不使用内部标准物质的情况下检测杂质对流动相溶剂的污染的液相色谱质量分析装置的控制方法。本公开的液相色谱质量分析装置的控制方法中，在进行使用了第一流动相溶剂的测定时计算第一时刻和第二时刻各自的信号强度的第一比率，并且在进行使用了第二流动相溶剂的测定时计算所述第一时刻和所述第二时刻各自的信号强度的第二比率，根据所述第一比率和所述第二比率之间的绝对差分来判定所述第二流动相溶剂是否被污染(参照图2)。
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公开(公告)号：CN114207774A
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN202080053697.2
申请日：2020-07-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供能够更适当地维持真空室的气压的质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法。本发明的质量分析装置的一例具备：第一真空室(101、201、301、401、501)、第一真空泵(106、203、303、403、503)、大气压相关值取得单元、调节第一真空泵(106、203、303、403、503)的实效排气速度的调节单元、控制装置(111、206、306、406、506)，控制装置(111、206、306、406、506)根据大气压相关值对调节单元进行控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118339631A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202280078703.9
申请日：2022-10-12
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本公开的目的在于提供一种质量分析装置的控制方法，能够在不针对每个数据点变更停顿时间的情况下抑制高离子浓度区域中的灵敏度降低。本公开所涉及的质量分析装置的控制方法按相同的时间间隔开始收集数据，收集所述数据的时间长度根据在预过滤器中产生的空间电荷的程度或由所述空间电荷引起的所述质量分析装置的灵敏度降低的程度而不同(参照图4B)。
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公开(公告)号：CN117083692A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202280020841.1
申请日：2022-03-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J49/24
Abstract: 本发明提供即使装置周边的气压变动也能够抑制灵敏度下降的质量分析装置及其控制方法。质量分析装置具备将试样离子化的离子源、按质量电荷比检测离子的质量分析部、控制气体的流量的控制部、和存储部。所述离子源具备离子源腔室、向所述离子源腔室导入试样的入口、向所述离子源腔室导入第一气体的第一气体导入口、向所述离子源腔室导入用于使试样离子化的第二气体的第二气体导入口、从所述离子源腔室向所述质量分析部排出离子的出口、和从所述离子源腔室排出气体的气体排出口，所述存储部存储测定条件与所述第二气体的流量的关系的表，所述控制部基于所述表，根据所述测定条件变更所述第二气体的流量，控制所述第一气体的流量，由此抑制所述离子源腔室的内部压力的变动。
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公开(公告)号：CN116806309A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202280009064.0
申请日：2022-01-17
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本公开的目的在于提供一种质量分析装置及其控制方法，能够降低由交流电压的控制电路的发热引起的质量轴的偏移。本公开的质量分析装置具备被施加交流电压的四极电极(111)和控制所述交流电压的电压值的控制部(100)，在将所述四极电极(111)用作质量过滤器的质量分析装置中，在测定之前，将预定的振幅(V1)的所述交流电压施加于所述多极电极预定的时间(T1)，将所述预定的振幅(V1)的所述交流电压施加于所述多极电极预定的时间(T1)时产生的发热量(J1)与将在所述测定中施加的振幅的交流电压施加至热稳定状态为止时产生的发热量相等(参照图3A)。
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公开(公告)号：CN114207774B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202080053697.2
申请日：2020-07-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供能够更适当地维持真空室的气压的质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法。本发明的质量分析装置的一例具备：第一真空室(101、201、301、401、501)、第一真空泵(106、203、303、403、503)、大气压相关值取得单元、调节第一真空泵(106、203、303、403、503)的实效排气速度的调节单元、控制装置(111、206、306、406、506)，控制装置(111、206、306、406、506)根据大气压相关值对调节单元进行控制。
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公开(公告)号：CN117321421A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202280029525.0
申请日：2022-02-02
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/00
Abstract: 将根据所述分析装置对试样的检测结果而生成的包含至少一个项目的数据输出信息与基准数据输出信息进行比较，对判定为异常状态的数据输出信息的项目赋予数据警报，并且将根据设置在分析装置的传感器的检测结果而生成的包含至少一个项目的系统输出信息与基准系统输出信息进行比较，对判定为异常状态的数据输出信息的项目赋予数据警报，基于将内标物质作为试样而由分析装置得到的数据输出信息的经时变化和系统输出信息的经时变化，进行自动分析装置的故障状态的预兆诊断。由此，在发生了异常处理时能够迅速地应对，能够准确掌握异常状态，抑制装置的早期异常诊断以及部件的调整或更换的频度。
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