公开(公告)号：CN1574196A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200310124570.3

申请日：2003-12-30

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  株式会社日立显示器

Inventor： 佐藤健史 ,  武田一男 ,  斋藤雅和 ,  后藤順 ,  大仓理

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  G09F9/30 ,  G09G3/00 ,  G02F1/133

CPC classification number: H01L21/0268 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/066 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/2026 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1285 ,  H01L27/1296 ,  H01L27/3244 ,  H01L29/04 ,  H01L29/78645

Abstract: 本发明提供了一种用并不昂贵的装置以高吞吐量制造高性能有源矩阵衬底的方法，和使用所述有源矩阵衬底的图象显示设备。在导轨上沿着短轴方向X和长轴方向Y移动的平台上携带有玻璃衬底，其形成有无定形硅半导体膜。通过用沿着激光束的长轴方向Y具有周期性的相移掩模将脉冲激光束强度调制成线束形，同时沿着在玻璃衬底上形成的无定形硅半导体膜的调制方向任意地移动激光束进行曝光从而对膜进行结晶，可以获得多晶化的大晶粒硅膜。图象显示设备可以结合具有有源元件，例如用所述硅膜形成的薄膜晶体管的有源矩阵衬底。

公开(公告)号：CN100483609C

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200310124570.3

申请日：2003-12-30

Applicant: 株式会社日立显示器

Inventor： 佐藤健史 ,  武田一男 ,  斋藤雅和 ,  后藤順 ,  大仓理

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  G09F9/30 ,  G09G3/00 ,  G02F1/133

CPC classification number: H01L21/0268 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/066 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/2026 ,  H01L21/268 ,  H01L27/1285 ,  H01L27/1296 ,  H01L27/3244 ,  H01L29/04 ,  H01L29/78645

Abstract: 本发明提供了一种用并不昂贵的装置以高吞吐量制造高性能有源矩阵衬底的方法，和使用所述有源矩阵衬底的图象显示设备。在导轨上沿着短轴方向X和长轴方向Y移动的平台上携带有玻璃衬底，其形成有无定形硅半导体膜。通过用沿着激光束的长轴方向Y具有周期性的相移掩模将脉冲激光束强度调制成线束形，同时沿着在玻璃衬底上形成的无定形硅半导体膜的调制方向任意地移动激光束进行曝光从而对膜进行结晶，可以获得多晶化的大晶粒硅膜。图象显示设备可以结合具有有源元件，例如用所述硅膜形成的薄膜晶体管的有源矩阵衬底。