公开(公告)号：CN101465355A

公开(公告)日：2009-06-24

申请号：CN200810184907.2

申请日：2008-12-19

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 石桥雅义 ,  加藤美登里

IPC: H01L27/12 ,  H01L23/522 ,  H01L29/786 ,  H01L21/84 ,  H01L21/768 ,  H01L21/28 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L51/055 ,  H01L51/0023 ,  H01L51/0545 ,  H01L51/102

Abstract: 本发明提供一种半导体器件及其制造方法，在衬底SUB1上形成包含用狭窄的间隙(GP1)隔离开来的栅电极(GE2)和辅助图案(AP2)的导体图案(CP3)，然后以将其覆盖的方式而形成栅极绝缘膜用的绝缘膜(GIF2)，并在其之上形成抗蚀膜(RP4)，从衬底SUB1的背面侧对抗蚀膜(RP4)进行曝光。在曝光时，使导体图案(CP3)作为掩模发挥功能，但使抗蚀膜(RP4)成为无法分辨间隙(GP1)的尺寸那样的低分辨率，并使显影后的抗蚀图案(RP4a)不产生与间隙(GP1)相当的部分。通过使用了此抗蚀图案RP4a的提离法而形成与栅电极(GE2)匹配的源·漏电极。通过对辅助图案(AP2)的形状进行调整就能够将源·漏电极的形状调整成任意形状。利用本发明，能够使薄膜晶体管的性能得到改善。

公开(公告)号：CN101431146A

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200810166779.9

申请日：2008-10-27

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 中里典生 ,  藤枝信男 ,  石桥雅义 ,  加藤美登里 ,  新井唯 ,  芝健夫

IPC: H01L51/40 ,  H01L51/10 ,  H01L21/288 ,  H01L29/417

CPC classification number: H01L21/4867 ,  H01L23/49838 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/09701 ,  H01L2924/12044 ,  H05K3/107 ,  H05K3/1258 ,  H05K2201/09036 ,  H05K2201/09254 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供了一种布线基板的制造方法以及该布线基板，该方法使具有用涂敷材料的优质的细线图案和图案间的优质的狭窄间隙的布线基板、电子电路的制造成为可能。因为可以通过印刷技术的开展来实现，故可以实现有机薄膜电子器件和电子电路的低价格化。具有场效应晶体管的布线基板的特征在于，具有并列地配置的多个沟槽，与这些多个沟槽的一端连通的共用沟槽，设在上述多个沟槽的底部的金属层，与该金属层连接而设置于上述共用沟槽的底部的电极层，设在上述共用沟槽上的电极层成为源电极或漏电极。

公开(公告)号：CN101431146B

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：CN200810166779.9

申请日：2008-10-27

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 中里典生 ,  藤枝信男 ,  石桥雅义 ,  加藤美登里 ,  新井唯 ,  芝健夫

IPC: H01L51/40 ,  H01L51/10 ,  H01L21/288 ,  H01L29/417

CPC classification number: H01L21/4867 ,  H01L23/49838 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/09701 ,  H01L2924/12044 ,  H05K3/107 ,  H05K3/1258 ,  H05K2201/09036 ,  H05K2201/09254 ,  H01L2924/00

Abstract: 本发明提供了一种布线基板的制造方法以及该布线基板，该方法使具有用涂敷材料的优质的细线图案和图案间的优质的狭窄间隙的布线基板、电子电路的制造成为可能。因为可以通过印刷技术的开展来实现，故可以实现有机薄膜电子器件和电子电路的低价格化。具有场效应晶体管的布线基板的特征在于，具有并列地配置的多个沟槽，与这些多个沟槽的一端连通的共用沟槽，设在上述多个沟槽的底部的金属层，与该金属层连接而设置于上述共用沟槽的底部的电极层，设在上述共用沟槽上的电极层成为源电极或漏电极。

公开(公告)号：CN104956415B

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201380071591.5

申请日：2013-02-26

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 石井智之 ,  中川树生 ,  石桥雅义 ,  加藤美登里

IPC: G08B25/04 ,  G08B21/04

CPC classification number: G08B21/0438 ,  G08B21/0423

Abstract: 本发明提供一种监视对象者的健康状态的系统。该系统具有：测定部，其以时间序列测定对象者居住或者停留的设施中的所述对象者的位置；以及信息处理部，其通过判定对象者的位置的时间序列变化是否满足预先决定的判定条件，来判定对象者的健康状态。

公开(公告)号：CN104956415A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201380071591.5

申请日：2013-02-26

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 石井智之 ,  中川树生 ,  石桥雅义 ,  加藤美登里

IPC: G08B25/04 ,  G08B21/04

CPC classification number: G08B21/0438 ,  G08B21/0423

Abstract: 本发明提供一种监视对象者的健康状态的系统。该系统具有：测定部，其以时间序列测定对象者居住或者停留的设施中的所述对象者的位置；以及信息处理部，其通过判定对象者的位置的时间序列变化是否满足预先决定的判定条件，来判定对象者的健康状态。