公开(公告)号：CN1118457A

公开(公告)日：1996-03-13

申请号：CN95107777.5

申请日：1995-06-28

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川升雄 ,  寺泽恒男 ,  福田宏 ,  早野胜也 ,  今井彰 ,  茂庭明美 ,  冈崎信次

IPC: G03F1/00 ,  H01L21/30

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70433

Abstract: 本发明涉及一种光掩模，该光掩膜可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。

公开(公告)号：CN1455439A

公开(公告)日：2003-11-12

申请号：CN03103366.0

申请日：2003-01-24

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  大日本印刷株式会社

Inventor： 长谷川昇雄 ,  早野胜也 ,  久保真二 ,  古泉裕弘 ,  高谷洋宣 ,  法元盛久

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/30 ,  G03F1/08

CPC classification number: G03F1/84 ,  G03F1/56 ,  Y10S438/949

Abstract: 课题在于缩短掩模的制作时间。在用光刻胶膜构成遮光体的掩模RM的缺陷检查中，采用使用异物检查装置CIS，读取对照射到掩模RM上的检查光的反射光、透过光或这两方的光学信息的办法，检查掩模RM上边的光刻胶图形的卷边、膜减薄、异物等这样的缺陷的有无。就是说，在掩模RM的检查中，可以不进行要求多的测定时间和高级技术的比较检查来进行缺陷检查。因此，可以简化掩模RM的检查工序，还可以缩短掩模的检查时间。

公开(公告)号：CN1423168A

公开(公告)日：2003-06-11

申请号：CN02149933.0

申请日：1995-06-28

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川升雄 ,  寺泽恒男 ,  福田宏 ,  早野胜也 ,  今井彰 ,  茂庭明美 ,  冈崎信次

IPC: G03F1/00 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70433

Abstract: 本发明涉及一种光掩模,该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低,或防止产生不需要的投影像,且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形,通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。

公开(公告)号：CN1251020C

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN02149933.0

申请日：1995-06-28

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川升雄 ,  寺泽恒男 ,  福田宏 ,  早野胜也 ,  今井彰 ,  茂庭明美 ,  冈崎信次

IPC: G03F1/00 ,  G03F9/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70433

Abstract: 本发明涉及一种光掩模，该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。

公开(公告)号：CN1109924C

公开(公告)日：2003-05-28

申请号：CN95107777.5

申请日：1995-06-28

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 长谷川升雄 ,  寺泽恒男 ,  福田宏 ,  早野胜也 ,  今井彰 ,  茂庭明美 ,  冈崎信次

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/32 ,  G03F1/26 ,  G03F1/36 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70433

Abstract: 本发明涉及一种光掩模，该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。