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公开(公告)号：CN1118457A
公开(公告)日：1996-03-13
申请号：CN95107777.5
申请日：1995-06-28
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: G03F1/32 , G03F1/26 , G03F1/36 , G03F7/70283 , G03F7/70433
Abstract: 本发明涉及一种光掩模，该光掩膜可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。
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公开(公告)号：CN1423168A
公开(公告)日：2003-06-11
申请号：CN02149933.0
申请日：1995-06-28
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G03F1/00 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/32 , G03F1/26 , G03F1/36 , G03F7/70283 , G03F7/70433
Abstract: 本发明涉及一种光掩模,该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低,或防止产生不需要的投影像,且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形,通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。
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公开(公告)号：CN1251020C
公开(公告)日：2006-04-12
申请号：CN02149933.0
申请日：1995-06-28
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G03F1/00 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F1/32 , G03F1/26 , G03F1/36 , G03F7/70283 , G03F7/70433
Abstract: 本发明涉及一种光掩模，该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。
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公开(公告)号：CN1109924C
公开(公告)日：2003-05-28
申请号：CN95107777.5
申请日：1995-06-28
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G03F1/08
CPC classification number: G03F1/32 , G03F1/26 , G03F1/36 , G03F7/70283 , G03F7/70433
Abstract: 本发明涉及一种光掩模，该光掩模可防止用投影曝光装置进行掩模图形复制时因所用掩模的析像不良所引起的成品率的降低，或防止产生不需要的投影像，且该光掩模在由半透明膜和相移器构成的半透明区域中设有由透明区域构成的主图形，通过各个区域的光的相位差实质上为180°。在此光掩模的主图形的周围配置透射光的相位差与主图形同相且透明的辅助图形。其中心线与主图形中心的距离D满足D＝bλ/NAm的关系。b的取值范围为1.35＜b≤1.9。
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